论文目录 | |
摘要 | 第2-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
1. 绪论 | 第9-15页 |
1.1 课题研究背景 | 第9-11页 |
1.1.1 热障涂层的制备工艺 | 第9-10页 |
1.1.2 热障涂层的材料 | 第10-11页 |
1.2 国内外研究现状 | 第11-13页 |
1.2.1 等离子体电解氧化制备纳米陶瓷层的研究现状 | 第11-12页 |
1.2.2 阴极等离子体电解沉积技术的研究现状 | 第12-13页 |
1.3 课题研究目的和主要内容 | 第13-15页 |
2. 实验方法 | 第15-21页 |
2.1 实验材料 | 第15页 |
2.1.1 试样原材料 | 第15页 |
2.1.2 试样制备 | 第15页 |
2.2 实验药品及仪器 | 第15-17页 |
2.2.1 实验药品 | 第15-16页 |
2.2.2 实验仪器及设备 | 第16-17页 |
2.3 阴极等离子体电解沉积过程研究 | 第17页 |
2.3.1 试样的预处理 | 第17页 |
2.3.2 氧化锆纳米棒的制备 | 第17页 |
2.3.3 阴极等离子体电解沉积过程 | 第17页 |
2.4 阴极等离子体电解沉积陶瓷层组织和物相分析 | 第17-18页 |
2.4.1 组织形貌分析 | 第17-18页 |
2.4.2 物相分析 | 第18页 |
2.5 阴极等离子体电解沉积陶瓷层性能测试 | 第18-20页 |
2.5.1 厚度测试 | 第18页 |
2.5.2 抗弯强度测试 | 第18页 |
2.5.3 断裂韧性测试 | 第18-19页 |
2.5.4 隔热性能测试 | 第19-20页 |
2.5.5 热冲击性能测试 | 第20页 |
2.6 技术路线 | 第20-21页 |
3. 等离子体放电过程及放电行为研究 | 第21-29页 |
3.1 弧光参数的测定及模型的建立 | 第21-22页 |
3.2 等离子体放电通道温度场分布 | 第22-25页 |
3.3 不同等离子体放电方式对放电过程及涂层组织结构的影响 | 第25-27页 |
3.4 本章小结 | 第27-29页 |
4. 预制膜对铝合金CPED陶瓷层组织及隔热性能的影响 | 第29-39页 |
4.1 不同生长阶段的CPED陶瓷层的微观形貌 | 第29-33页 |
4.2 CPED陶瓷层元素分析 | 第33-35页 |
4.3 CPED陶瓷层的不同成膜阶段物相分析 | 第35-37页 |
4.4 陶瓷层的隔热性能分析 | 第37页 |
4.5 本章小结 | 第37-39页 |
5. 氧化锆纳米棒对CPED陶瓷层组织及性能的影响 | 第39-50页 |
5.1 不同水热时间氧化锆纳米棒形貌及物相分析 | 第39-41页 |
5.1.1 不同水热时间ZrO_2纳米棒的表面形貌 | 第39-40页 |
5.1.2 不同水热时间ZrO_2纳米棒的TEM形貌 | 第40页 |
5.1.3 不同水热时间ZrO_2纳米棒的物相分析 | 第40-41页 |
5.2 不同水热时间的氧化锆纳米棒对CPED起弧电压的影响 | 第41页 |
5.3 氧化锆纳米棒对CPED陶瓷层微观形貌的影响 | 第41-43页 |
5.4 氧化锆纳米棒作用下的CPED陶瓷层的EDS分析 | 第43-44页 |
5.5 陶瓷涂层的物相分析 | 第44-45页 |
5.6 氧化锆纳米棒对陶瓷层性能的影响 | 第45-48页 |
5.6.1 ZrO_2纳米棒对陶瓷层隔热性能的影响 | 第45-46页 |
5.6.2 ZrO_2纳米棒对CPED陶瓷层热冲击性能的影响 | 第46页 |
5.6.3 ZrO_2纳米棒对陶瓷层断裂韧性的影响 | 第46-48页 |
5.7 氧化锆纳米棒对CPED陶瓷层的增韧机理 | 第48-49页 |
5.8 本章小结 | 第49-50页 |
6. 碳纳米管对CPED陶瓷涂层组织及热防护性能的影响 | 第50-64页 |
6.1 碳纳米管的微观形貌 | 第50页 |
6.2 碳纳米管的浓度对起弧电压的影响 | 第50-51页 |
6.3 碳纳米管对CPED陶瓷层微观形貌的影响 | 第51-53页 |
6.4 不同浓度碳纳米管制备陶瓷层的EDS分析 | 第53-56页 |
6.5 不同碳纳米管含量下涂层的相成分XRD分析 | 第56页 |
6.6 碳纳米管浓度对CPED陶瓷涂层性能的影响 | 第56-62页 |
6.6.1 碳纳米管浓度对CPED陶瓷涂层厚度的影响 | 第56-57页 |
6.6.2 碳纳米管浓度对CPED陶瓷涂层隔热性能的影响 | 第57-58页 |
6.6.3 碳纳米管浓度对CPED陶瓷涂层热冲击性能的影响 | 第58-59页 |
6.6.4 碳纳米管浓度对CPED陶瓷涂层断裂韧性的影响 | 第59-61页 |
6.6.5 碳纳米管浓度对CPED陶瓷涂层抗弯强度的影响 | 第61-62页 |
6.7 碳纳米管增韧机理 | 第62-63页 |
6.8 本章小结 | 第63-64页 |
7. 铂颗粒改性氧化锆陶瓷涂层的研究 | 第64-79页 |
7.1 氯铂酸浓度对CPED起弧电压的影响 | 第64页 |
7.2 氯铂酸对CPED陶瓷层微观形貌的影响 | 第64-67页 |
7.2.1 氯铂酸作用下的CPED陶瓷层表面形貌 | 第64-66页 |
7.2.2 氯铂酸作用下的CPED陶瓷层截面形貌 | 第66-67页 |
7.3 不同浓度氯铂酸作用下的CPED陶瓷层EDS分析 | 第67-68页 |
7.4 不同氯铂酸含量下涂层的相成分XRD分析 | 第68页 |
7.5 氯铂酸对CPED陶瓷涂层性能的影响 | 第68-74页 |
7.5.1 氯铂酸的浓度对CPED陶瓷涂层厚度的影响 | 第68-69页 |
7.5.2 氯铂酸对CPED陶瓷涂层热冲击性能的影响 | 第69-70页 |
7.5.3 铂颗粒对CPED陶瓷涂层隔热性能的影响 | 第70-71页 |
7.5.4 氯铂酸对CPED陶瓷涂层断裂韧性的影响 | 第71-73页 |
7.5.5 氯铂酸浓度对CPED陶瓷涂层抗弯强度的影响 | 第73-74页 |
7.6 铂颗粒增韧CPED陶瓷涂层抗剥落机理 | 第74-75页 |
7.7 氯铂酸作用下的CPED陶瓷涂层的成膜机理的研究 | 第75-77页 |
7.8 三种不同增韧机理的探讨 | 第77页 |
7.9 本章小结 | 第77-79页 |
8. 结论 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-86页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第86-87页 |
致谢 | 第87-89页 |