SiC单晶片固结磨料化学机械抛光垫研制

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SiC单晶片固结磨料化学机械抛光垫研制

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SiC单晶片固结磨料化学机械抛光垫研制

论文目录
致谢	第1-5页
摘要	第5-7页
Abstract	第7-11页
1 引言	第11-29页
· 论文选题依据	第11-14页
· 半导体技术	第11-12页
· 半导体材料	第12-14页
· 碳化硅的组成与性能	第14-15页
· 碳化硅晶体加工工艺	第15页
· 化学机械抛光技术	第15-18页
·固结磨料抛光垫的介绍	第18-24页
· 抛光垫的组织结构	第18-21页
· 抛光垫的表面纹理图案	第21-24页
· 固结磨料抛光垫制备工艺的研究现状	第24-27页
· 微复制技术	第24页
· 丝网印刷技术	第24-25页
· UV光固化技术	第25-26页
· 热固化技术	第26-27页
· 低温冰冻技术	第27页
· 本论文主要研究内容	第27-29页
·实验条件	第29-35页
· 制备抛光垫所用的设备	第29-30页
· 碳化硅CMP实验条件	第30-31页
· 检测仪器及设备	第31-32页
· SiC晶片的介绍	第32-33页
· 加工性能的评判指标	第33-35页
3 SiC单晶片固结磨料抛光垫固化工艺及组成成分的研究	第35-48页
· SiC单晶片固结磨料抛光垫固化工艺的选择	第35-40页
· UV光固化	第35-37页
· 热固化	第37-40页
· SiC单晶片固结磨料抛光垫成份的选择	第40-44页
· 油性树脂	第42页
· 水性树脂	第42-43页
· 聚氨酯粉末	第43-44页
· 光固化参数的选择	第44-47页
· 光固化距离	第45页
· 光固化时间	第45-46页
· 固化厚度	第46-47页
· 本章小结	第47-48页
4 SiC单晶片固结磨料抛光垫制备工艺的研究	第48-57页
· SiC单晶片固结磨料抛光垫制备的工艺流程	第48-49页
· SiC单晶片固结磨料抛光垫的模具	第49-50页
· 不同磨粒含量对制备固结磨料抛光垫的影响	第50-51页
· SiC单晶片固结磨料抛光垫制备过程的优化	第51-53页
· 分层固化	第53-56页
· 本章小结	第56-57页
5 固结磨料化学机械SiC单晶片的抛光实验	第57-68页
· SiC单晶片固结磨料抛光垫结构的介绍	第57页
· 对比试验	第57-62页
· 不同固结磨料抛光垫的表面沟槽的对比试验	第62-65页
· 不同转速的对比试验	第65-66页
· 不同抛光垫凸台高度的对比试验	第66页
· 本章小结	第66-68页
6 总结与展望	第68-70页
· 总结	第68页
· 展望	第68-70页
参考文献	第70-75页
作者简历	第75-76页
	第76页

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