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硅量子点表面修饰及其光谱分析

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硅量子点表面修饰及其光谱分析
论文目录
 
摘要第1-4页
ABSTRACT第4-6页
第一章 绪论第6-17页
  · 硅材料概述第6-7页
  · 硅量子点材料研究现状第7-13页
  · 硅量子点应用研究进展第13-16页
  · 本论文选题依据与研究内容第16-17页
第二章 硅量子点的制备及其光学性质研究第17-26页
  · 电化学腐蚀法制备硅量子点第17-20页
  · 硅量子点的形貌特征第20-22页
  · 硅量子点的光学性质第22-24页
  · 催化剂对硅量子点光学性质的影响第24-25页
  · 硅量子点的光学稳定性第25-26页
第三章 SiO_2修饰对硅量子点光学性质的影响第26-31页
  · 引言第26页
  · 实验部分第26-27页
  · 氧化时间对硅量子点荧光峰位的影响第27-28页
  · SiO_2修饰前后硅量子点光学性质的对比分析第28-31页
第四章 羧基修饰硅量子点的光学性质的研究第31-35页
  · 引言第31页
  · 实验部分第31-32页
  · 硅量子点表面的羧基修饰第32-34页
  · 本章结论第34-35页
第五章 结论第35-36页
致谢第36-37页
参考文献第37-40页

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