磁控溅射制备氮化铜薄膜及其掺杂研究

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磁控溅射制备氮化铜薄膜及其掺杂研究

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磁控溅射制备氮化铜薄膜及其掺杂研究

论文目录
摘要	第1-6页
Abstract	第6-9页
第一章绪论	第9-20页
· 引言	第9页
· Cu_3N 薄膜结构和性能	第9-11页
· Cu_3N 薄膜的应用	第11-13页
· Cu_3N 薄膜的研究进展	第13-18页
· 氮气气氛对薄膜结构和性能的影响	第13-15页
· 温度对薄膜结构和性能的影响	第15-16页
· 溅射功率对薄膜结构和性能的影响	第16页
· 元素掺杂对薄膜结构和性能的影响	第16-17页
· 其他方向的研究进展	第17-18页
· 本论文的选题意义及研究内容	第18-20页
第二章 Cu_3N 薄膜的制备和表征	第20-29页
· Cu_3N 薄膜的制备方法	第20-21页
· 磁控溅射技术	第21-23页
· 磁控溅射的基本原理	第21-22页
· 反应溅射和射频溅射	第22-23页
· 实验设备介绍	第23-25页
· 本论文涉及的表征方法	第25-29页
· X 射线衍射(XRD)	第25-26页
· 扫描电子显微镜(SEM)	第26页
· X 射线能谱仪（EDS）	第26页
· 紫外可见分光光度计（UV-VIS）	第26-27页
· 表面轮廓仪	第27页
· 四探针电阻仪	第27-28页
· 显微硬度仪	第28-29页
第三章氮气流量对Cu_3N 薄膜结构和性能的影响	第29-36页
· 改变氮气流量制备Cu_3N 薄膜	第29-30页
· 薄膜结构分析	第30-32页
· 薄膜沉积速率	第32-33页
· 薄膜电阻率	第33-34页
· 薄膜显微硬度	第34-35页
· 本章小结	第35-36页
第四章 Ni 掺杂对Cu_3N 薄膜结构和性能的影响	第36-47页
· Ni 掺杂氮化铜薄膜的制备方法	第36-38页
· Cu_3Ni_xN 薄膜的结构分析	第38-40页
· Cu_3Ni_xN 薄膜的表面形貌	第40-41页
· Cu_3Ni_xN 薄膜的光学性质	第41-44页
· Cu_3Ni_xN 薄膜的电阻率	第44-45页
· Cu_3Ni_xN 薄膜的显微硬度	第45-46页
· 本章小结	第46-47页
第五章结论和展望	第47-49页
· 主要结论	第47页
· 需要进一步研究的问题	第47-49页
致谢	第49-50页
参考文献	第50-57页
硕士研究生期间发表的论文及参与的科研项目	第57页

本篇论文共57页，点击这进入下载页面。

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