光热退火制备多晶硅薄膜的研究

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光热退火制备多晶硅薄膜的研究

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光热退火制备多晶硅薄膜的研究

论文目录
摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
第一章绪论	第8-21页
· 研究太阳能电池的意义	第8-10页
· 太阳能电池的发展及现状	第10-17页
· 硅系太阳能电池	第11-14页
· 化合物薄膜太阳能电池	第14-16页
· 有机半导体薄膜太阳电池	第16页
· 纳米晶化学太阳能电池	第16-17页
· 多晶硅薄膜太阳电池的研究现状	第17-20页
· 低温工艺	第17-18页
· 中温工艺	第18-19页
· 高温工艺	第19-20页
· 小结	第20-21页
第二章硅薄膜的再结晶技术	第21-34页
· 固相晶化技术(SPC)	第21-29页
· 固相晶化的热力学理论	第21-27页
· 固相晶化技术分类	第27-29页
· 区域熔化再结晶(ZMR)	第29-32页
· 开题思想	第32-34页
第三章快速光热退火(RPTA)制备多晶硅薄膜	第34-45页
· 快速光热退火设备	第34-35页
· 设备工作原理简述	第34页
· 设备的结构	第34-35页
· 快速光热退火机理分析	第35-36页
· 退火条件对a-Si:H薄膜晶化的影响	第36-42页
· 升温速率的影响	第37-40页
· 降温速率的影响	第40-42页
· 沉积条件对a-Si:H薄膜晶化的影响	第42-44页
· 沉积温度对晶化的影响	第42-43页
· 磷掺杂的影响	第43-44页
· 小结	第44-45页
第四章低温光热退火制备多晶硅薄膜的研究	第45-57页
· 低温下光热退火的研究	第45-47页
· 快速光热退火实验装置的改进	第47页
· 实验过程及结果	第47-54页
· 改进的光热退火方式与原系统退火的效果比对	第47-49页
· 光热退火时间与晶化温度的关系	第49-50页
· 不同光照下的光热退火情况比较	第50-53页
· 光热退火晶化对材料光学带隙的影响	第53-54页
· 对实验结果的分析	第54-56页
· 小结	第56-57页
第五章结论	第57-59页
参考文献	第59-66页
致谢	第66-67页
发表论文	第67页

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