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聚碳酸酯(PC)表面改性技术研究

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聚碳酸酯(PC)表面改性技术研究
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-7页
致谢第7-13页
第一章 绪论第13-21页
  · 引言第13-14页
  · 聚合物表面超疏水改性技术发展第14-18页
  · 有机电子器件薄膜封装技术发展第18-20页
  · 课题研究内容第20-21页
第二章 聚合物表面等离子体改性技术理论研究第21-30页
  · 超疏水理论研究第21-25页
    · 表面自由能第21页
    · 表面形貌第21-25页
  · 等离子体表面改性技术第25-29页
    · 等离子体的定义以及分类第25页
    · 低温等离子体的形成机理-气体放电第25-27页
    · 等离子体与固体表面的相互作用第27-28页
    · 等离子体对聚合物材料的表面改性第28-29页
  · 本章小结第29-30页
第三章 聚碳酸酯(PC)基片表面超疏水改性技术研究第30-49页
  · 等离子体刻蚀技术第30-32页
    · 等离子体刻蚀的工艺过程第30页
    · O_2等离子体刻蚀机理第30-31页
    · O_2等离子体刻蚀参数对PC基片表面形貌的影响第31-32页
  · 实验部分第32-40页
    · 主要材料第32-33页
    · 实验设备及原理第33-39页
    · 实验步骤及测试与表征第39-40页
      · 实验步骤第39-40页
      · 测试与表征第40页
  · 实验结果及分析第40-48页
    · PC基片超疏水表面的检测分析第40-47页
      · 不同处理工艺对PC基片表面形貌的影响第40-42页
      · 不同处理工艺对PC基片表面化学组成的影响第42-46页
      · PC基片超疏水表面接触角分析第46页
      · PC基片的透光率测试第46-47页
    · PC基片超疏水表面失效分析第47-48页
    · 稳定超疏水表面第48页
  · 本章小结第48-49页
第四章 基于聚碳酸酯(PC)基片封装薄膜的制备第49-58页
  · 封装薄膜的水氧渗透机理第49-51页
  · 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术第51-53页
  · 实验部分第53-55页
    · 主要材料第53-54页
    · 实验设备及原理第54-55页
    · 实验步骤及测试与表征第55页
  · 实验结果及分析第55-57页
  · 本章小结第57-58页
第五章 结论与展望第58-60页
  · 全文总结第58页
  · 不足与期望第58-60页
参考文献第60-65页
攻读学位期间发表的论文第65页
攻读学位期间参与的研究项目第65 页

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