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脉冲激光沉积氮化碳薄膜及其生长机理研究

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脉冲激光沉积氮化碳薄膜及其生长机理研究
论文目录
 
第一章 绪论第1-9 页
第二章 实验第9-20 页
  2.1 实验原理第9-14 页
    2.1.1 PLD基本原理第9-11 页
    2.1.2 直流辉光放电简介第11-14 页
  2.2 实验方法、装置及工艺参数第14-18 页
  2.3 实验检测技术第18-20 页
第三章 实验结果和讨论第20-54 页
  3.1 低气压下制备氮化碳薄膜第20-28 页
    3.1.1 RPLD制备碳氮薄膜第20-26 页
    3.1.2 PE-RPLD制备碳氮薄膜第26-28 页
  3.2 高气压下制备氮化碳薄膜第28-52 页
    3.2.1 典型实验条件下制备的碳氮薄膜的性质第29-36 页
    3.2.2 高气压下碳氮薄膜生长条件研究第36-52 页
  3.3 氮化碳薄膜的生长机理分析第52-54 页
第四章 结束语第54-57 页
参考文献第57-62页

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