约束刻蚀剂层技术用于Ni-Ti合金、熔融石英和ZnO纳米线阵列的三维微加工的研究

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约束刻蚀剂层技术用于Ni-Ti合金、熔融石英和ZnO纳米线阵列的三维微加工的研究

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约束刻蚀剂层技术用于Ni-Ti合金、熔融石英和ZnO纳米线阵列的三维微加工的研究

论文目录
摘要	第11-15页
ABSTRACT	第15-20页
第一章绪论	第20-42页
§· 微机电系统简介	第20-21页
§· 现代微细加工技术	第21-31页
· 基本的微细加工过程	第21-22页
· 体硅的微加工	第22-24页
· 硅表面微加工技术	第24页
· LIGA技术	第24-25页
· 高能粒子束直写技术	第25-26页
· 电火花微加工技术	第26-27页
· 电化学在微细加工中的应用	第27-31页
§· 约束刻蚀剂层技术(CELT)的简介	第31-33页
§· 本论文工作的设想与目标	第33-37页
参考文献	第37-42页
第二章实验方法与仪器	第42-52页
§· 试剂与被加工材料	第42页
· 试剂	第42页
· 材料	第42页
· 靶材	第42页
§· 模板(工作电极)的制作	第42-46页
· 微圆柱电极的制备	第42-43页
· 复杂三维Pt-Ir模板的制备与连接	第43-44页
· 复杂硅基模板的制备、连接与包封	第44-46页
· 被加工的基底的处理	第46页
§· 电解池	第46-47页
§· 超精密电化学微加工系统	第47-48页
· 仪器的组成及其性能	第47页
· 电化学微加工的基本步骤	第47-48页
§· 微波等离子体化学增强化学气相沉积系统	第48-49页
§· 表征方法	第49-51页
· 金相显微镜	第49页
· 激光扫描共聚焦显微镜	第49-50页
· 扫描电子显微镜	第50-51页
参考文献	第51-52页
第三章 CELT用于Ni-Ti合金表面三维微加工	第52-71页
§· 刻蚀体系的选择	第53-54页
§· 刻蚀体系的电化学研究	第54-62页
· 溶液的pH值NaNO_2的电化学行为影响	第54-59页
· 溶液中的F~-对NaNO_2的电化学行为影响	第59-62页
§· 采用微圆柱电极作为模板研究不同体系的刻蚀分辨率	第62-66页
§· 复杂三维图形的复制加工	第66-67页
§· 本章小结	第67-69页
参考文献	第69-71页
第四章 CELT用于熔融石英表面三维微加工	第71-87页
§· 石英微加工的主要技术	第71-73页
§· HF基溶液刻蚀SiO_2的机理	第73-75页
§· 微圆柱电极作为模板的刻蚀实验	第75-80页
§· 复杂三维模板的复制加工	第80-82页
§· 刻蚀速度与刻蚀分辨率的关系和以及使用脉冲电位模式的原因	第82-83页
§· 本章小结	第83-85页
参考文献	第85-87页
第五章 CELT技术应用于ZnO纳米线阵列微加工的初探	第87-107页
§· 研究背景	第87-88页
§· 微波增强化学气相沉积(PECVD)法制备ZnO纳米线	第88-98页
· 空气流速对制备的ZnO纳米线形貌的影响	第90-93页
· 气路对硅片上不同位置所制备的ZnO形貌的影响	第93-94页
· Zn粉量、硅片的大小对ZnO形貌的影响	第94-98页
§· CELT技术应用于ZnO纳米线阵列微加工的初探	第98-103页
§· 本章小结	第103-104页
参考文献	第104-107页
作者攻读硕士学位期间发表的论文	第107-108页
致谢	第108-109页

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