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温度和光照对硅纳米线制备及其电学性能的影响

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温度和光照对硅纳米线制备及其电学性能的影响
论文目录
 
目录第1-8页
论文摘要第8-9页
Abstract第9-11页
图片目录第11-13页
表格目录第13-14页
符号说明第14-15页
第一章 绪论第15-31页
  · 纳米科学技术与纳米材料概述第15-18页
  · 硅纳米线的研究现状第18-25页
  · 硅纳米线的制备方法第25-26页
  · 本论文的主要工作第26页
  第一章 参考文献第26-31页
第二章 伽伐尼置换法制备硅纳米线的生长机理第31-43页
  · 硅片表面处理与H-终止表面第31-34页
  · 伽伐尼置换(Galvanic Displacement)第34-36页
  · AgNO_3+HF溶液体系伽伐尼置换法生长硅纳米线的原理第36-38页
  · 不同研究小组用AgNO_3+HF溶液体系生长硅纳米线结果第38-39页
  · 本章小结第39-40页
  第二章 参考文献第40-43页
第三章 不同温度和光照下硅纳米线的制备第43-59页
  · 引言第43-44页
  · 实验部分第44-45页
    · 实验试剂及仪器第44页
    · 硅片清洗第44页
    · 实验步骤第44-45页
  · 结果与讨论第45-57页
    · 双面硅纳米线生长速率的比较第45-46页
    · 不同温度对硅纳米线刻蚀的影响第46-55页
    · 不同光照强度对硅纳米线刻蚀速率的影响第55-57页
  · 本章小结第57页
  第三章 参考文献第57-59页
第四章 温度和光照对硅纳米线电学性能的影响第59-66页
  · 实验部分第59-61页
    · 实验试剂及仪器第59页
    · 电极的制作第59-61页
  · 实验结果与讨论第61-64页
    · 温度对硅纳米线电学性能的影响第61-64页
    · 光照对硅纳米线电学性能的影响第64页
  · 本章小结第64-65页
  第四章 参考文献第65-66页
第五章 总结与展望第66-67页
致谢第67-68页
硕士论文期间发表文章第68 页

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