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GaAs MMIC宽带低相移数控衰减器芯片的研究

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GaAs MMIC宽带低相移数控衰减器芯片的研究
论文目录
 
摘要第1-4 页
ABSTRACT第4-7 页
第一章 绪论第7-15 页
  · 引言第7 页
  · GaAs 微波单片电路的发展历史第7-8 页
  · 单片电路与混合电路的比较第8 页
  · GaAs 宽带MMIC 的技术特点和应用第8-11 页
  · 选题背景第11 页
  · MMIC 数控衰减器研制流程第11-13 页
  · 本文主要研究内容第13-15 页
第二章 GaAs MMIC 数控衰减器芯片电路的设计第15-41 页
  · 引言第15-16 页
  · 外延材料的设计第16-18 页
    · PHEMT 与HEMT 的区别第16-17 页
    · PHEMT 的工作原理第17-18 页
  · 开关器件的设计、测试和建模第18-29 页
    · PHEMT 器件的机理与设计第18-25 页
    · 开关器件的测试第25-26 页
    · 开关器件的等效电路及建模第26-29 页
  · 无源元件的测试和建模第29-32 页
    · 薄膜电阻第30-31 页
    · GaAs 电阻第31 页
    · 通孔第31-32 页
    · 微带线及其不均匀区第32 页
  · 电路拓扑结构的选择第32-35 页
    · 数控衰减器电路基本原理和设计理念第32-34 页
    · 基本衰减结构第34-35 页
  · MMIC 数控衰减器芯片电路的CAD 优化第35-39 页
    · 选择EDA 工具第35 页
    · 电路设计第35-36 页
    · 电磁场验证第36-39 页
  · 单片数控衰减器版图布局的设计第39-40 页
  · 单片数控衰减器电路的可靠性设计第40 页
  · 本章小结第40-41 页
第三章 GaAs MMIC 数控衰减器芯片电路的工艺过程及监控第41-49 页
  · 引言第41 页
  · 主要工艺流程第41-42 页
  · 关键工艺第42-45 页
    · “T”形栅的光刻与制作第43 页
    · 芯片钝化第43-44 页
    · 金属化第44 页
    · 薄膜电阻第44 页
    · 背面通孔第44-45 页
  · 工艺过程监控第45-47 页
    · PCM 的全面应用第45-46 页
    · SPC 技术的建立和使用第46-47 页
  · 本章小结第47-49 页
第四章 GaAs MMIC 数控衰减器芯片电路的测试研究第49-59 页
  · 引言第49 页
  · 矢量网络分析仪第49-53 页
    · 两端口S 参数第49-50 页
    · 矢量网络分析仪的误差修正第50-53 页
  · 在片测试系统的研究第53-57 页
    · 校准参考面第53 页
    · 微波探针台第53-54 页
    · 在片测试第54-55 页
    · 载体测试第55-57 页
  · 自动测试系统的研究第57 页
  · 在片测试结果的统计分析第57-58 页
  · 本章小结第58-59 页
第五章 GaAs MMIC 数控衰减器芯片的研制结果及分析第59-63 页
  · 研制结果与分析第59-62 页
    · 电路设计结果第59-60 页
    · 研制结果第60-61 页
    · 性能测试分析第61-62 页
  · 应用与前景第62-63 页
第六章 结论第63-65 页
致谢第65-67 页
参考文献第67-71 页
研究成果第71-73 页

本篇论文共73页,点击这进入下载页面
 
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