太阳能电池用硅材料中痕量金属杂质含量的ICP-MS分析方法研究

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太阳能电池用硅材料中痕量金属杂质含量的ICP-MS分析方法研究

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太阳能电池用硅材料中痕量金属杂质含量的ICP-MS分析方法研究

论文目录
摘要	第1-4 页
Abstract	第4-7 页
第一章前言	第7-11 页
· 太阳能电池用硅材料中痕量杂质分析的重要意义	第7-8 页
· 高纯材料的痕量分析	第8-9 页
· 本文的基本构想和研究内容	第9-11 页
第二章文献综述	第11-19 页
· 世界能源概况	第11-12 页
· 太阳能的利用	第12-15 页
· 太阳能光伏技术	第12-13 页
· 世界光伏产业的发展状况	第13-15 页
· 太阳能电池及太阳能级硅材料的发展状况	第15-19 页
· 太阳能电池原理简介	第15 页
· 太阳能电池分类	第15-16 页
· 太阳能电池产业的发展对太阳能级硅材料的需求十分巨大	第16-19 页
第三章晶体硅中痕量金属杂质分析	第19-33 页
· 引言	第19 页
· 硅中的金属杂质	第19-24 页
· 金属杂质在硅中的存在形式	第19-20 页
· 金属在硅中的固溶度	第20-21 页
· 硅中金属的扩散系数	第21-23 页
· 金属沉淀	第23-24 页
· 金属杂质对太阳能电池性能的影响	第24-25 页
· 太阳能级多晶硅的纯度及相关技术要求	第25-27 页
· 棒状、块状硅	第26 页
· 粉状多晶硅	第26-27 页
· 碳头料	第27 页
· 粉状料	第27 页
· 高纯硅中痕量杂质分析技术进展	第27-30 页
· 质谱的无机痕量分析	第27-28 页
· 二次离子质谱（SIMS）法	第28 页
· 高解析辉光放电质谱（GDMS）法	第28-29 页
· 电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）法	第29-30 页
· 太阳能级硅材料中痕量杂质分析方法的比较	第30-33 页
第四章电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）技术	第33-43 页
· 引言	第33 页
· ICP-MS 的发展	第33-34 页
· ICP-MS 的特点	第34-35 页
· ICP-MS 的基本原理	第35-40 页
· 炬管和ICP 离子源	第36 页
· 等离子体和质谱仪之间的接口	第36-37 页
· 离子透镜系统	第37-38 页
· 四级杆	第38-40 页
· 离子检测器	第40 页
· 与仪器相关的概念	第40-43 页
第五章ICP-MS 实验方法分析及结论	第43-55 页
· 引言	第43 页
· 实验部分	第43-44 页
· 仪器及主要工作参数的选择	第43 页
· 主要试剂和溶液的配制	第43-44 页
· 器皿及工作室	第44 页
· 样品处理	第44 页
· 干扰分析	第44-49 页
· 同量异位素干扰	第44-45 页
· 多原子离子干扰	第45 页
· 氧化物干扰	第45-46 页
· 双电荷干扰	第46 页
· 基体抑制干扰	第46 页
· 物理效应干扰	第46-47 页
· ICP-MS 的稳定性	第47 页
· 其它干扰	第47-48 页
· 待测元素中潜在的谱干扰及同位素的选择	第48-49 页
· 结果与讨论	第49-53 页
· 基体影响及内标选择	第49-51 页
· 方法的精密度及检测限	第51-52 页
· 加标回收实验	第52-53 页
· 小结	第53-55 页
第六章总结和展望	第55-57 页
· 全文总结	第55-56 页
· 存在的问题和展望	第56-57 页
致谢	第57-59 页
参考文献	第59-63 页
研究成果	第63-64 页

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