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电铸铜箔材位置效应及微气胀成形性能研究

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电铸铜箔材位置效应及微气胀成形性能研究
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-11页
1 绪论第11-20页
  · 微成形简介第11页
  · 微气压胀形工艺及研究现状第11-14页
    · 微气压胀形工艺第12页
    · 微气压胀形研究现状第12-14页
  · 电铸铜简介第14-18页
    · 电铸铜原理第14-15页
    · 电铸质量影响因素第15-16页
    · 电铸工艺的改善第16-17页
    · 电铸铜的特点与应用第17-18页
  · 课题研究目的、意义和研究内容第18-20页
    · 研究目的与意义第18页
    · 研究内容第18-20页
2 实验材料与方法第20-32页
  · 实验材料第20-24页
    · 电铸基片的选择第20页
    · 光刻胶的选择第20-21页
    · 掩膜版的制作第21-22页
    · 电铸液的配比第22页
    · 模具设计第22-24页
  · 电铸铜实验第24-27页
    · 电铸工字样实验方案第24-25页
    · 电铸铜箔实验方案第25页
    · 电铸工艺过程第25-27页
  · 胀形实验第27-29页
    · 胀形实验方案第27-28页
    · 胀形工艺过程第28-29页
  · 实验分析方法第29-32页
    · 铜箔物相分析第29页
    · 电铸铜箔内应力测量第29页
    · 电铸铜箔组织观察第29-30页
    · 电铸铜箔拉伸性能第30-31页
    · 胀形件高度测量第31-32页
3 电铸铜箔铸层均匀性研究第32-40页
  · 微观组织分析第32-33页
  · 电铸工艺对铸层均匀性的影响第33-36页
    · 正交试验结果第33-35页
    · 电铸参数对箔材均匀性的影响第35-36页
  · 箔材均匀性工艺优化第36-37页
    · 优化工艺实验验证第36-37页
    · 电铸箔材不均匀性系数对比分析第37页
  · 箔材厚度方向性第37-39页
  · 本章小结第39-40页
4 电铸铜箔微观组织与力学性能的位置效应研究第40-52页
  · 电铸铜箔内应力的位置效应第40-43页
    · 电铸铜箔内应力分析第40-42页
    · 电铸铜箔择优取向分析第42-43页
  · 电铸铜箔微观组织的位置效应第43-44页
  · 电铸铜箔拉伸性能的位置效应第44-51页
    · 电铸铜箔单向拉伸实验结果第44-47页
    · 电铸铜箔抗拉强度的位置效应第47-48页
    · 不同工艺制备的铜箔强度对比分析第48-50页
    · 电铸铜箔拉伸断口分析第50-51页
  · 本章小结第51-52页
5 电铸铜箔微气压胀形成形性能研究第52-60页
  · 微气压胀形原料制备第52-53页
    · 电铸制备细晶铜箔第52页
    · 铜箔热处理工艺第52-53页
  · 微气压胀形试验第53-55页
    · 微气压胀形参数选择第53-55页
    · 胀破时间结果第55页
  · 胀形件成形性能分析第55-58页
    · 正交试验结果第55-56页
    · 胀形参数对胀形高径比的影响第56-58页
    · 不同材料微气压胀形高径比对比第58页
  · 本章小结第58-60页
6 总结第60-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-68页
附录第68页

本篇论文共68页,点击这进入下载页面
 
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