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介孔MCM-48分子筛及膜材料的制备

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介孔MCM-48分子筛及膜材料的制备
论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-10页
引言第10-11页
1 文献综述第11-19页
  · 有序介孔材料的研究概述第11-16页
    · 有序介孔材料的概述第11页
    · 有序介孔材料的合成方法第11-12页
    · 有序介孔分子筛的研究历程第12-13页
    · 有序介孔分子筛的形成机理研究第13-16页
  · 有序介孔氧化硅膜的研究概况第16-17页
    · 有序介孔氧化硅膜的合成方法第16页
    · 多孔载体支撑的介孔膜第16-17页
    1.2.3 介孔 MCM-48 膜的研究的概述第17页
  · 本文选题意义及研究内容第17-19页
2 介孔分子筛的合成第19-33页
  · 实验部分第19-20页
    · 主要实验试剂及性质第19页
    · 主要实验器材及仪器第19页
    · 模板剂的去除第19页
    · 样品表征第19-20页
  2.2 单一模板剂制备 MCM-48 分子筛第20-22页
    2.2.1 MCM-48 分子筛的合成第20页
    · 分子筛的表征结果与讨论第20-22页
      · X-射线粉末衍射(XRD)第20-21页
      · 扫描电镜表征(SEM)第21-22页
  2.3 加入无机盐的方法制备 MCM-48 分子筛第22-25页
    · 加入无机盐分子筛的合成第22页
    · 分子筛的表征结果与讨论第22-25页
      · X-射线粉末衍射(XRD)第22-23页
      · 扫描电镜表征(SEM)第23-24页
      · 水热稳定性测试第24-25页
  2.4 以 P123 和 CTAB 混合模板剂制备 MCM-48 分子筛第25-27页
    · 混合模板剂合成分子筛第25页
    · 混合模板剂分子筛的表征结果与讨论第25-27页
      · X-射线粉末衍射(XRD)第25-26页
      · 扫描电镜表征(SEM)第26-27页
  2.5 以 APTES 和 TEOS 为硅源合成介孔材料第27-32页
    · 氨基化介孔材料的制备第27页
    · 氨基化介孔材料表征和结果分析第27-32页
      · X-射线粉末衍射(XRD)第28-29页
      · 扫描电镜表征(SEM)第29-32页
  · 本章小结第32-33页
3 MCM-48 膜的制备第33-58页
  · 实验部分第33-34页
    · 主要实验试剂和实验仪器第33页
    · 实验中载体管的预处理第33页
    · 膜的模板剂的去除第33页
    · 膜的表征第33-34页
  3.2 MCM-48 膜的原位合成第34-41页
    · 膜的合成第34-36页
    · 结果与讨论第36-41页
      · X-射线粉末衍射(XRD)第36-37页
      · 扫描电镜表征(SEM)第37-41页
  3.3 硅溶胶预堵孔制备 MCM-48 膜第41-46页
    · 载体的预堵孔第41-42页
    · 膜的合成第42-43页
    · 结果与讨论第43-46页
      · X-射线粉末衍射(XRD)第43页
      · 扫描电镜表征(SEM)第43-45页
      · 膜的渗透性能第45-46页
  3.4 二次生长法制备 MCM-48 膜第46-52页
    · 晶种层的制备第46页
    · 膜的制备第46-47页
    · 结果与讨论第47-52页
      · X-射线粉末衍射(XRD)第47-48页
      · 扫描电镜表征(SEM)第48-51页
      · 膜的渗透性能第51-52页
  3.5 反扩散晶种法制备 MCM-48 膜第52-56页
    · 晶种层的制备第52-53页
    · 膜的合成第53页
    · 结果与讨论第53-56页
      · X-射线粉末衍射(XRD)第53-54页
      · 扫描电镜图(SEM)第54-56页
      · 膜的渗透性能第56页
  · 本章小结第56-58页
参考文献第58-62页
攻读硕士学位期间发表论文情况第62-63页
致谢第63 页

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