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溶胶凝胶法制备透明超疏水纳米二氧化硅薄膜的研究
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溶胶凝胶法制备透明超疏水纳米二氧化硅薄膜的研究
论文目录
 
摘要第1-9页
ABSTRACT第9-11页
第1章 绪论第11-33页
　　· 超疏水表面的理论基础第11-17页
　　　　· 静态接触角第11-12页
　　　　· 水滴与粗糙固体表面接触的Wenzel 模式第12页
　　　　· 水滴与粗糙固体表面接触的Cassie 模式第12-13页
　　　　· 两种模式之间的关系第13-15页
　　　　· 滚动角理论第15-16页
　　　　· 植物叶表面的疏水性第16-17页
　　· 超疏水表面的制备技术第17-27页
　　　　· 机械加工法第17-18页
　　　　· 使用了光刻技术的微加工法第18-19页
　　　　· 激光刻蚀法第19-20页
　　　　· 等离子体刻蚀法第20页
　　　　· 物理气相沉积法第20-21页
　　　　· 溶胶-凝胶法第21-24页
　　　　· 聚合物溶液浇注法第24-25页
　　　　· 静电纺纱法第25页
　　　　· 聚电解质交替沉积法第25-26页
　　　　· 纳米管(棒)阵列法第26-27页
　　· 相分离理论第27-31页
　　　　· 聚合物的相分离热力学第27-30页
　　　　· 相分离动力学的两种机制第30-31页
　　· 超疏水表面技术中存在的问题、应用前景以及最新发展动向第31-32页
　　· 本文的立题思想第32-33页
第2章 实验材料及实验方法第33-41页
　　· 主要仪器和试剂第33-34页
　　　　· 主要仪器第33页
　　　　· 主要试剂第33-34页
　　· 实验流程图第34页
　　· 膜层的制备第34-35页
　　· 表征方法第35-38页
　　　　· 激光粒度分析仪表征第35页
　　　　· 扫描电子显微镜（SEM）表征第35页
　　　　· 原子力显微镜（AFM）表征第35-36页
　　　　· 接触角测定第36-37页
　　　　· 可见光透过率光谱分析第37页
　　　　· 红外光谱分析第37-38页
　　· 薄膜的械强度和耐环境性能的测定[95]第38-41页
第3章 高分子量聚丙稀酸（HPAA）作相分离添加剂制备的超疏水薄膜第41-63页
　　· 酸溶胶的制备第41页
　　· 碱溶胶的制备及表征第41-43页
　　　　· 两种不同粒径碱溶胶的制备第41页
　　　　· 碱溶胶的后续处理第41-42页
　　　　· 碱溶胶粒径表征第42页
　　　　· 碱溶胶制备的理论探讨第42-43页
　　· 聚丙稀酸的合成第43页
　　· 混合溶胶的制备第43页
　　· 镀膜第43页
　　· 烘干及热处理第43页
　　· 修饰平滑表面的接触角测定第43-45页
　　· 碱溶胶的粒径对薄膜表面接触角的影响第45-46页
　　· 聚丙稀酸含量对薄膜表面接触角的影响第46页
　　· 薄膜表面形貌表征第46-51页
　　　　· 扫描电子显微镜（SEM）表征第46-49页
　　　　· 原子力显微镜（AFM）表征第49-51页
　　· 表面修饰第51-58页
　　　　· 薄膜接枝原理第51-52页
　　　　· 薄膜表面气相沉积修饰第52-53页
　　　　· 薄膜表面溶液反应修饰第53页
　　　　· 温度对TMCS 修饰的影响第53-54页
　　　　· 温度对SCA 修饰的影响第54页
　　　　· 修饰时间对TMCS 和SCA 修饰的影响第54-55页
　　　　· 红外光谱表征第55-58页
　　· 二氧化硅超疏水薄膜的疏水机理第58-61页
　　　　· 双重粗糙度结合的优点第58-61页
　　　　· 产生高接触角的原因第61页
　　· 薄膜的透光性第61-62页
　　· 小结第62-63页
第4章 低分子量聚丙稀酸（LPAA）作相分离添加剂制备的高疏水薄膜第63-69页
　　· 混合溶胶的制备第63页
　　· 聚丙稀酸含量对薄膜疏水性能的影响第63-64页
　　· 薄膜表面微观结构表征第64-66页
　　　　· 电子显微镜（SEM）表征第64-65页
　　　　· 原子力显微镜（AFM）表征第65-66页
　　· 二氧化硅薄膜的疏水机理第66-67页
　　· 小结第67-69页
第5章 薄膜机械性能和耐环境性能研究第69-73页
　　· 薄膜厚度对薄膜疏水和机械性能的影响第69页
　　· 薄膜具有高机械强度的原因第69-71页
　　· 薄膜耐环境性能的探讨第71页
　　· 本章小结第71-73页
第6章 总结第73-75页
　　· 主要总结第73页
　　· 主要创新点第73-74页
　　· 有待进一步研究的问题第74-75页
参考文献第75-83页
致谢第83-84页
攻读硕士学位期间取得的科研成果第84 页

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