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射频辉光放电等离子体空间特性的质谱诊断
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射频辉光放电等离子体空间特性的质谱诊断
论文目录
中文摘要
第1-4 页
英文摘要
第4-9 页
第一章 引言
第9-13 页
· 等离子体在科研及工业中的应用
第9-10 页
· 等离子体诊断的意义
第10 页
· 各种等离子体诊断技术的特点
第10-11 页
· 本论文工作的内容及意义
第11-13 页
第二章 等离子体物理学及质谱诊断基础
第13-19 页
· 等离子体物理学基础
第13-15 页
· 等离子体中的反应
第13-14 页
· 辉光放电的一般性质
第14-15 页
· 高频辉光放电电位的轴向分布
第15 页
· 等离子体质谱诊断基础
第15-19 页
· 等离子体质谱诊断流分析
第16-17 页
· 等离子体质谱诊断分压强分析
第17 页
· 中性成份的质谱诊断
第17-18 页
· 质谱诊断分压强分析的实验考虑
第18-19 页
第三章 实验系统
第19-22 页
· 实验系统的组成
第19 页
· 质谱计及工作原理
第19-21 页
· 可移动质谱取样装置
第21-22 页
第四章 Ar等离子体空间特性的质谱诊断
第22-34 页
· 前言
第22-23 页
· 实验参数
第23 页
· Ar等离子体的消耗率
第23-28 页
· Ar等离子体消耗率的计算方法
第23 页
· Ar等离子体消耗率的轴向分布
第23-24 页
· Ar等离子体消耗率的径向分布
第24-26 页
· 压强对Ar等离子体消耗率的影响
第26-27 页
· 有无衬底时Ar等离子体消耗率的比较
第27-28 页
· Ar~+及Ar~(2+)信号随电子能的变化
第28-29 页
· Ar~+信号空间分布
第29-31 页
· Ar~+信号轴向分布
第30 页
· Ar~+信号径向分布
第30-31 页
· 总结
第31-34 页
第五章 SiH_4等离子体空间特性的质谱诊断
第34-46 页
· 前言
第34 页
· 实验参数
第34-35 页
· SiH_4等离子体的消耗率
第35-42 页
· SiH_4等离子体消耗率的计算方法
第35-38 页
· SiH_4等离子体消耗率计算公式的修正及讨论
第38-41 页
· 功率对SiH_4等离子体消耗率的影响
第41 页
· 压强对SiH_4等离子体消耗率的影响
第41-42 页
· SiH_4等离子体消耗率的轴向分布
第42 页
· SiH_4等离子体消耗率的径向分布
第42 页
· SiH_4等离子体中的SiH_n(n<4)中性基团
第42-44 页
· 功率对SiH_n(n<4)中性基团的影响
第43 页
· SiH_n(n<4)中性基团的轴向分布
第43-44 页
· 结论
第44-46 页
第六章 SiCl_4等离子体空间特性的质谱诊断
第46-57 页
· 前言
第46-47 页
· 实验参数
第47 页
· SiCl_4等离子体的消耗率
第47-51 页
· 功率对SiCl_4等离子体消耗率的影响
第48 页
· 气压对SiCl_4等离子体的消耗率的影响
第48-49 页
· 流量对SiCl_4等离子体的消耗率的影响
第49-50 页
· SiCl_4等离子体消耗率的轴向分布
第50 页
· SiCl_4等离子体消耗率的径向分布
第50-51 页
· SiCl_4等离子体中的SiCl_n(n<3)中性基团
第51-55 页
· 功率对SiCl_n(n<3)中性基团的影响
第51-53 页
· 气压对SiCl_n(n<3)中性基团的影响
第53 页
· 流量对SiCl_n(n<3)中性基团的影响
第53 页
· SiCl_n(n<3)中性基团的轴向分布
第53-55 页
· SiCl_n(n<3)中性基团的径向分布
第55 页
· 结论
第55-57 页
第七章 结论与展望
第57-59 页
参考文献
第59-62 页
致谢
第62-63 页
硕士期间发表论文
第63页
本篇论文共
63
页,
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