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射频辉光放电等离子体空间特性的质谱诊断

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射频辉光放电等离子体空间特性的质谱诊断
论文目录
 
中文摘要第1-4 页
英文摘要第4-9 页
第一章 引言第9-13 页
  · 等离子体在科研及工业中的应用第9-10 页
  · 等离子体诊断的意义第10 页
  · 各种等离子体诊断技术的特点第10-11 页
  · 本论文工作的内容及意义第11-13 页
第二章 等离子体物理学及质谱诊断基础第13-19 页
  · 等离子体物理学基础第13-15 页
    · 等离子体中的反应第13-14 页
    · 辉光放电的一般性质第14-15 页
    · 高频辉光放电电位的轴向分布第15 页
  · 等离子体质谱诊断基础第15-19 页
    · 等离子体质谱诊断流分析第16-17 页
    · 等离子体质谱诊断分压强分析第17 页
    · 中性成份的质谱诊断第17-18 页
    · 质谱诊断分压强分析的实验考虑第18-19 页
第三章 实验系统第19-22 页
  · 实验系统的组成第19 页
  · 质谱计及工作原理第19-21 页
  · 可移动质谱取样装置第21-22 页
第四章 Ar等离子体空间特性的质谱诊断第22-34 页
  · 前言第22-23 页
  · 实验参数第23 页
  · Ar等离子体的消耗率第23-28 页
    · Ar等离子体消耗率的计算方法第23 页
    · Ar等离子体消耗率的轴向分布第23-24 页
    · Ar等离子体消耗率的径向分布第24-26 页
    · 压强对Ar等离子体消耗率的影响第26-27 页
    · 有无衬底时Ar等离子体消耗率的比较第27-28 页
  · Ar~+及Ar~(2+)信号随电子能的变化第28-29 页
  · Ar~+信号空间分布第29-31 页
    · Ar~+信号轴向分布第30 页
    · Ar~+信号径向分布第30-31 页
  · 总结第31-34 页
第五章 SiH_4等离子体空间特性的质谱诊断第34-46 页
  · 前言第34 页
  · 实验参数第34-35 页
  · SiH_4等离子体的消耗率第35-42 页
    · SiH_4等离子体消耗率的计算方法第35-38 页
    · SiH_4等离子体消耗率计算公式的修正及讨论第38-41 页
    · 功率对SiH_4等离子体消耗率的影响第41 页
    · 压强对SiH_4等离子体消耗率的影响第41-42 页
    · SiH_4等离子体消耗率的轴向分布第42 页
    · SiH_4等离子体消耗率的径向分布第42 页
  · SiH_4等离子体中的SiH_n(n<4)中性基团第42-44 页
    · 功率对SiH_n(n<4)中性基团的影响第43 页
    · SiH_n(n<4)中性基团的轴向分布第43-44 页
  · 结论第44-46 页
第六章 SiCl_4等离子体空间特性的质谱诊断第46-57 页
  · 前言第46-47 页
  · 实验参数第47 页
  · SiCl_4等离子体的消耗率第47-51 页
    · 功率对SiCl_4等离子体消耗率的影响第48 页
    · 气压对SiCl_4等离子体的消耗率的影响第48-49 页
    · 流量对SiCl_4等离子体的消耗率的影响第49-50 页
    · SiCl_4等离子体消耗率的轴向分布第50 页
    · SiCl_4等离子体消耗率的径向分布第50-51 页
  · SiCl_4等离子体中的SiCl_n(n<3)中性基团第51-55 页
    · 功率对SiCl_n(n<3)中性基团的影响第51-53 页
    · 气压对SiCl_n(n<3)中性基团的影响第53 页
    · 流量对SiCl_n(n<3)中性基团的影响第53 页
    · SiCl_n(n<3)中性基团的轴向分布第53-55 页
    · SiCl_n(n<3)中性基团的径向分布第55 页
  · 结论第55-57 页
第七章 结论与展望第57-59 页
参考文献第59-62 页
致谢第62-63 页
硕士期间发表论文第63页

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