论文目录 | |
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 前言 | 第8-10页 |
| 1.2 永磁材料简介 | 第10页 |
| 1.3 钕铁硼的腐蚀行为 | 第10-11页 |
| 1.4 烧结NdFeB永磁体耐蚀性能国内外研究现状 | 第11-15页 |
| 1.4.1 磁体本身耐蚀性改进 | 第11-12页 |
| 1.4.2 磁体表面改性技术 | 第12-15页 |
| 1.5 微弧氧化技术研究现状 | 第15-17页 |
| 1.5.1 微弧氧化技术特点 | 第15-16页 |
| 1.5.2 微弧氧化技术在阀金属表面改性研究 | 第16-17页 |
| 1.5.3 微弧氧化技术在非阀金属表面改性研究 | 第17页 |
| 1.6.电泳涂装技术简介 | 第17-18页 |
| 1.7 选题的目的、意义及主要研究内容 | 第18-20页 |
| 1.7.1 选题的目的、意义 | 第18页 |
| 1.7.2 主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 实验材料及研究方法 | 第20-27页 |
| 2.1 实验材料及药品 | 第20-21页 |
| 2.2 微弧氧化处理装置及工艺参数设计 | 第21-23页 |
| 2.2.1 微弧氧化处理装置 | 第21-22页 |
| 2.2.2 微弧氧化电解液选择 | 第22页 |
| 2.2.3 微弧氧化电参数选择 | 第22-23页 |
| 2.3 电泳处理装置及工艺参数设计 | 第23-24页 |
| 2.3.1 电泳沉积处理装置 | 第23页 |
| 2.3.2 电泳处理工艺参数选择 | 第23-24页 |
| 2.3.3 烘烤固化 | 第24页 |
| 2.4 组织结构分析 | 第24-25页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析 | 第24页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜分析 | 第24-25页 |
| 2.5 性能测试方法 | 第25-26页 |
| 2.5.1 电化学测试 | 第25页 |
| 2.5.2 中性盐雾(NSS)试验 | 第25-26页 |
| 2.6 实验仪器和设备 | 第26-27页 |
| 第三章 烧结NdFeB磁体表面微弧氧化陶瓷膜层制备与表征 | 第27-51页 |
| 3.1 铝酸盐体系微弧氧化陶瓷膜层制备与表征 | 第27-42页 |
| 3.1.1 槽压-时间及电流密度-时间曲线 | 第27-29页 |
| 3.1.2 微弧氧化电压对陶瓷膜层显微结构及性能的影响 | 第29-33页 |
| 3.1.3 微弧氧化时间对陶瓷膜层显微结构及性能的影响 | 第33-38页 |
| 3.1.4 微弧氧化频率对陶瓷膜层显微结构及性能的影响 | 第38-42页 |
| 3.2 硅酸盐体系微弧氧化陶瓷膜层制备与表征 | 第42-50页 |
| 3.2.1 槽压-时间及电流密度-时间曲线 | 第42-44页 |
| 3.2.2 微弧氧化电压对陶瓷膜层显微结构及性能的影响 | 第44-50页 |
| 3.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 烧结NdFeB磁体表面复合膜层制备与表征 | 第51-68页 |
| 4.1 电泳沉积电流密度-时间曲线 | 第51-52页 |
| 4.2 铝酸盐体系下复合膜层制备与表征 | 第52-59页 |
| 4.2.1 工艺参数对复合膜层厚度的影响 | 第52-59页 |
| 4.3 硅酸盐体系下复合膜层制备与表征 | 第59-64页 |
| 4.3.1 微弧氧化电压对复合膜层厚度的影响 | 第59-61页 |
| 4.3.2 复合膜层截面EDS分析 | 第61-62页 |
| 4.3.3 复合膜层电化学测试分析 | 第62-64页 |
| 4.4 复合膜层的耐蚀性 | 第64-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
