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氧化镓基宽禁带材料退火研究

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氧化镓基宽禁带材料退火研究
论文目录
 
摘要第1-7页
ABSTRACT第7-13页
符号对照表第13-14页
缩略语对照表第14-17页
第一章 绪论第17-23页
  1.1 氧化镓基宽禁带材料的特性与应用综述第17-20页
    1.1.1 晶体结构第17-18页
    1.1.2 氧化镓的光学与电学性质第18-19页
    1.1.3 薄膜制备第19页
    1.1.4 应用第19-20页
  1.2 国内外研究现状第20-22页
    1.2.1 国外的研究第20-21页
    1.2.2 国内的研究第21-22页
  1.3 课题选取与研究内容安排第22-23页
第二章 薄膜退火设备及表征方法第23-29页
  2.1 退火设备介绍第23-24页
  2.2 薄膜表征技术第24-26页
    2.2.1 X射线衍射(X-Ray diffraction, XRD)第24页
    2.2.2 原子力显微镜(Atomic Force Microscope, AFM)第24-25页
    2.2.3 X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)第25页
    2.2.4 紫外-可见分光光度计(Ultraviolet spectrophotometer, UVS)第25-26页
  2.3 氧化镓基日盲探测器简介第26-28页
    2.3.1 紫外探测器的结构和工作原理第26页
    2.3.2 紫外探测器的制备第26-27页
    2.3.3 MSM结构紫外探测器的主要性能指标第27-28页
  2.4 本章小结第28-29页
第三章 退火对氧化镓薄膜特性的影响第29-53页
  3.1 氧化镓薄膜的退火工艺第29-30页
  3.2 退火时间对氧化镓薄膜性质的影响第30-41页
    3.2.1 退火时间对氧化镓薄膜结晶质量的影响第30-35页
    3.2.2 退火时间对氧化镓光学特性的影响第35-39页
    3.2.3 退火时间对氧化镓表面形貌的影响第39-41页
  3.3 退火温度对氧化镓薄膜性质的影响第41-45页
    3.3.1 退火温度对氧化镓结晶质量第41-43页
    3.3.2 退火温度对氧化镓光学性质的影响第43-44页
    3.3.3 退火温度对氧化镓表面形貌的影响第44-45页
  3.4 退火气氛对氧化镓特性及探测器性能的影响第45-51页
    3.4.1 退火气氛对氧化镓结晶质量的影响第45-46页
    3.4.2 退火气氛对氧化镓光学特性的影响第46-48页
    3.4.3 退火气氛对氧化镓表面形貌的影响第48页
    3.4.4 退火气氛对氧化镓基光电探测器性能的影响第48-51页
  3.5 本章小结第51-53页
第四章 蓝宝石衬底上外延铝镓氧薄膜的退火研究第53-71页
  4.1 铝镓氧薄膜的退火工艺第53页
  4.2 退火对晶体质量的影响第53-56页
  4.3 退火对光学特性的影响第56-58页
  4.4 表面组分分析第58-68页
    4.4.1 800 摄氏度下气氛退火对薄膜组分的影响第58-64页
    4.4.2 1000 摄氏度下气氛退火对薄膜组分的影响第64-68页
  4.5 退火对表面形貌的影响第68-69页
  4.6 本章小结第69-71页
第五章 总结与展望第71-73页
  5.1 全文总结第71-72页
  5.2 展望第72-73页
参考文献第73-77页
致谢第77-79页
作者简介第79-80页

本篇论文共80页,点击这进入下载页面
 
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