面向标准单元库的MOS器件大型可寻址测试芯片的研究、设计与实现

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面向标准单元库的MOS器件大型可寻址测试芯片的研究、设计与实现

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面向标准单元库的MOS器件大型可寻址测试芯片的研究、设计与实现

论文目录
致谢	第1-6页
摘要	第6-7页
ABSTRACT	第7-14页
第1章绪论	第14-24页
1.1 集成电路发展概况	第14-16页
1.2 纳米工艺下的成品率问题	第16-19页
1.2.1 成品率概念	第16-17页
1.2.2 成品率问题的来源	第17-19页
1.3 测试芯片	第19-22页
1.3.1 测试结构的分类	第20-21页
1.3.2 测试芯片的应用	第21-22页
1.4 本文研究内容	第22-23页
1.5 论文结构	第23-24页
第2章 MOSFET特性简介	第24-32页
2.1 CMOS工艺中的MOSFET	第24-25页
2.2 MOSFET的电压电流特性	第25-30页
2.2.1 MOSFET的三个工作区	第25-27页
2.2.2 I_D-V_(GS)&I_D-V_(DS)特性曲线	第27-28页
2.2.3 MOSFET的关键测量参数	第28-30页
2.3 FinFET特性简介	第30-31页
2.4 本章小结	第31-32页
第3章 MOSFET大型可寻址测试芯片设计	第32-49页
3.1 研究现状及挑战	第32-34页
3.2 设计思路	第34-42页
3.2.1 开关器件的选择	第35-37页
3.2.2 电压降的解决思路	第37-38页
3.2.3 背景电流的解决思路	第38-42页
3.3 设计方案	第42-48页
3.3.1 译码电路的实现	第44-46页
3.3.2 开关电路的实现	第46-48页
3.4 本章小结	第48-49页
第4章专用于标准单元MOSFET的测试结构设计	第49-62页
4.1 标准单元库简介	第49-51页
4.2 MOSFET测试结构设计	第51-54页
4.2.1 传统MOSFET测试结构	第51-53页
4.2.2 专用于标准单元MOSFET的测试结构	第53-54页
4.3 专用测试结构版图自动化实现	第54-61页
4.3.1 目标器件列表产生	第55-57页
4.3.2 目标器件测试结构生成	第57-59页
4.3.3 测试结构的摆放和绕线	第59-60页
4.3.4 布图规划生成测试芯片	第60-61页
4.4 本章小结	第61-62页
第5章设计应用和测量分析	第62-72页
5.1 设计应用实现	第62-64页
5.2 参数测量方案	第64-67页
5.2.1 亚阈值电流I_(off)的测量	第64-65页
5.2.2 饱和状态下漏端电流I_(dsat)的测量	第65-66页
5.2.3 线性状态下漏端电流I_(dlin)的测量	第66页
5.2.4 饱和状态下阈值电压V_(tsat)的测量	第66-67页
5.2.5 线性状态下阈值电压V_(tlin)的测量	第67页
5.3 测量结果分析	第67-71页
5.3.1 准确性分析	第68-69页
5.3.2 晶体管波动性分析	第69-70页
5.3.3 单管仿真和实测比对分析	第70-71页
5.4 本章小结	第71-72页
第6章总结与展望	第72-75页
6.1 本文总结	第72-73页
6.2 主要创新点	第73-74页
6.3 研究展望	第74-75页
参考文献	第75-80页
作者简历及攻读硕士学位期间主要的研究成果	第80页

本篇论文共80页，点击这进入下载页面。

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