氧化镓外延薄膜生长及特性研究

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氧化镓外延薄膜生长及特性研究

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氧化镓外延薄膜生长及特性研究

论文目录
摘要	第1-7页
ABSTRACT	第7-12页
符号对照表	第12-13页
缩略语对照表	第13-16页
第一章绪论	第16-24页
1.1 引言	第16页
1.2 氧化镓的晶体结构和材料的光学和电学性质	第16-18页
1.2.1 晶体结构	第16-17页
1.2.2 光学和电学性质	第17-18页
1.3 氧化镓材料的应用与研究进展	第18-21页
1.3.1 氧化镓材料的应用	第18-19页
1.3.2 Ga_2O_3材料与器件研究进展	第19-21页
1.4 氧化镓薄膜的制备方法	第21-22页
1.5 研究内容与结构安排	第22-24页
第二章薄膜生长设备及测试方法	第24-32页
2.1 脉冲激光沉积系统	第24-28页
2.1.1 发展历程	第24-25页
2.1.2 脉冲激光沉积系统组成	第25-28页
2.1.3 PLD沉积薄膜的原理	第28页
2.2 薄膜表征方法	第28-31页
2.2.1 X射线衍射仪	第28-29页
2.2.2 原子力显微镜	第29-30页
2.2.3 光谱型椭圆偏振仪	第30-31页
2.2.4 紫外-可见分光光度计	第31页
2.3 本章小结	第31-32页
第三章蓝宝石衬底上锡掺杂氧化镓薄膜生长及其性质	第32-56页
3.1 外延生长掺杂氧化镓薄膜的工艺流程	第32-33页
3.2 基于 1% SnO_2含量氧化镓靶材的氧化镓薄膜生长	第33-42页
3.2.1 氧气分压对外延薄膜质量的影响	第33-39页
3.2.2 衬底变温对掺锡氧化镓薄膜质量的影响	第39-42页
3.3 基于 5% SnO_2含量氧化镓靶材的氧化镓薄膜生长	第42-49页
3.3.1 氧压对外延薄膜质量的影响	第42-46页
3.3.2 衬底温度对薄膜质量的影响	第46-49页
3.4 锡掺杂氧化镓薄膜的光电探测特性	第49-54页
3.4.1 引言	第49页
3.4.2 紫外探测器的制备	第49-50页
3.4.3 探测器的特性分析	第50-54页
3.5 本章小结	第54-56页
第四章氧化镓同质外延生长及其性质	第56-68页
4.1 未掺杂氧化镓同质薄膜生长	第56-60页
4.1.1 实验部分	第56页
4.1.2 结果与讨论	第56-60页
4.2 锡掺杂氧化镓同质薄膜生长	第60-66页
4.2.1 实验部分	第61页
4.2.2 结果与讨论	第61-66页
4.3 本章小结	第66-68页
第五章总结和展望	第68-70页
5.1 全文总结	第68-69页
5.2 展望	第69-70页
参考文献	第70-76页
致谢	第76-78页
作者简介	第78-79页

本篇论文共79页，点击这进入下载页面。

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