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Ni掺杂下Ti5Si3的燃烧合成反应路径及电子结构计算

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Ni掺杂下Ti5Si3的燃烧合成反应路径及电子结构计算
论文目录
 
提要第1-9 页
第1章 绪论第9-22 页
  · 选题意义第9-10 页
  · 改善Ti_5Si_3 断裂韧性的途径第10-14 页
    · 细化晶粒第11 页
    · 降低CTE 各向异性第11-14 页
    · 复合化第14 页
  · Ti_5Si_3 的合金化研究现状第14-16 页
  · Ti_5Si_3 第一性原理计算的相关理论及研究现状第16-20 页
    · 密度泛函理论第16-18 页
    · 交换关联泛函第18-19 页
    · 常用数值方法第19-20 页
    · Ti_5Si_3 第一性原理计算的研究现状第20 页
  · 研究内容第20-22 页
第2章 实验方案和计算方法第22-27 页
  · 实验方案第22-25 页
    · 实验材料第22 页
    · 实验方法第22-24 页
      · 制备预制块第22-23 页
      · DTA 实验第23 页
      · TE 实验第23 页
      · SHS 实验第23-24 页
    · 样品表征第24-25 页
      · X 射线衍射分析第24 页
      · 扫描电镜和能谱分析第24-25 页
    · 技术路线第25 页
  · 计算方法第25-27 页
    · 硬件设备第25 页
    · 软件基础第25-26 页
    · 计算路线第26-27 页
第3章 Ni-Ti-Si 体系燃烧合成反应热力学计算第27-36 页
  · 引言第27 页
  · 标准反应吉布斯自由能第27-28 页
  · 标准反应焓第28-29 页
  · 绝热燃烧温度第29-35 页
  · 本章小结第35-36 页
第4章 Ni-Ti-Si 体系燃烧合成Ti_5Si_3的反应路径第36-69 页
  · 引言第36 页
  · 反应路径探讨第36-57 页
    · DTA 条件下反应路径第36-49 页
      · 二元体系DTA 分析第37-42 页
      · 三元体系DTA 截断分析第42-47 页
      · DTA 反应路径示意图第47-49 页
    · TE 条件下反应路径第49-56 页
      · 二元体系TE 分析第50 页
      · 三元体系TE 截断分析第50-52 页
      · TE 反应路径示意图第52-56 页
    · SHS 条件下的反应路径第56-57 页
  · 反应动力学影响因素第57-68 页
    · Ni 含量的影响第57-61 页
    · 反应物粒度的影响第61-68 页
  · 本章小结第68-69 页
第5章 Ni 掺杂下Ti_5Si_3的电子结构计算第69-83 页
  · 引言第69 页
  · 参数选择与计算步骤第69-71 页
    · 构建晶体结构第69-70 页
    · 设置计算参数第70 页
    · 几何结构优化第70-71 页
    · 基态性质与电子结构计算第71 页
  · 平衡结构与结合性质第71-77 页
    · 形成焓第71-73 页
    · 晶格常数第73-74 页
    · 弹性模量第74-77 页
  · 电子结构第77-81 页
    · Ti_5Si_3 的电子结构分析第77-78 页
    · Ni 占位的电子结构分析第78-79 页
    · Ni 掺杂对Ti_5Si_3 电子结构的影响第79-81 页
  · 本章小结第81-83 页
第6章 结论第83-84 页
参考文献第84-91 页
致谢第91-92 页
摘要第92-94 页
Abstract第94-96 页

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