论文目录 | |
摘要 | 第11-13页 |
Abstract | 第13-15页 |
第一章 绪论 | 第15-75页 |
1.1 课题的研究背景与意义 | 第15-16页 |
1.2 草酸二甲酯加氢反应 | 第16-34页 |
1.2.1 乙二醇的性质及应用 | 第16页 |
1.2.2 乙二醇生产技术的研究概况 | 第16-17页 |
1.2.3 石油路线简介 | 第17-19页 |
1.2.4 非石油C_1路线 | 第19-21页 |
1.2.5 DMO加氢制EG反应机理 | 第21-24页 |
1.2.6 DMO加氢制EG催化剂研究现状 | 第24页 |
1.2.7 Cu/SiO_2催化剂在DMO加氢体系中的研究现状 | 第24-31页 |
1.2.8 Cu/SiO_2催化剂的作用机理 | 第31-33页 |
1.2.9 Cu/SiO_2催化剂的失活机理 | 第33-34页 |
1.3 富勒烯C_(60)的性质及在催化领域的应用 | 第34-50页 |
1.3.1 富勒烯C_(60)的发现历程 | 第34-36页 |
1.3.2 C_(60)的结构性质 | 第36页 |
1.3.3 C_(60)的电子性质 | 第36-38页 |
1.3.4 C_(60)在催化领域的应用 | 第38-50页 |
1.4 质谱在催化反应中间体检测中的应用 | 第50-64页 |
1.4.1 质谱仪简介 | 第50-51页 |
1.4.2 质谱常用电离方式和离子源 | 第51-57页 |
1.4.3 基于ESI的新型常压敞开式离子源 | 第57-59页 |
1.4.4 二次电喷雾电离(SESI)在气体检测中的应用 | 第59-60页 |
1.4.5 质谱在检测催化反应中间体的应用 | 第60-64页 |
1.5 本文主要研究内容与思路 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-75页 |
第二章 C_(60)在Cu-SiO_2催化剂体系中电子转移作用的研究 | 第75-99页 |
2.1 引言 | 第75-76页 |
2.2 实验部分 | 第76-79页 |
2.2.1 实验试剂及来源 | 第76-77页 |
2.2.2 实验器材及分析测试方法 | 第77-78页 |
2.2.3 样品制备 | 第78页 |
2.2.4 电化学测试 | 第78-79页 |
2.3 催化剂中C_(60)掺杂的均匀性考察 | 第79-81页 |
2.3.1 XRD表征 | 第79-80页 |
2.3.2 TEM表征 | 第80-81页 |
2.4 循环伏安曲线分析 | 第81-97页 |
2.4.1 C_(60)固体膜在PC-乙腈混合溶剂中的循环伏安曲线 | 第81-84页 |
2.4.2 Cu/SiO_2催化剂的循环伏安曲线 | 第84-86页 |
2.4.3 C_(60)-Cu/SiO_2循环伏安分析 | 第86-88页 |
2.4.4 C_(60)-Cu/SiO_2与Cu/SiO_2循环伏安对比分析 | 第88-91页 |
2.4.5 Cu (Ⅰ)硅氧烷笼状化合物Cu_(24)O_(24)Si_8R_8 | 第91-92页 |
2.4.6 Cu (Ⅰ)硅氧烷笼状化合物Cu_(24)O_(24)Si_8R_8的循环伏安分析 | 第92-93页 |
2.4.7 Cu_(24)O_(24)Si_8R_8与C_(60)混合物的循环伏安分析 | 第93-95页 |
2.4.8 轨道能级分析 | 第95-97页 |
2.5 本章结论 | 第97-98页 |
参考文献 | 第98-99页 |
第三章 ESI-MS检测草酸二甲酯气相加氢反应中间体的研究 | 第99-118页 |
3.1 引言 | 第99-100页 |
3.2 实验部分 | 第100-103页 |
3.2.1 实验用试剂及气体纯度和来源 | 第100页 |
3.2.2 实验仪器及方法 | 第100-102页 |
3.2.3 质谱仪参数设置 | 第102-103页 |
3.3 数据分析与讨论 | 第103-116页 |
3.3.1 溶剂甲醇的离线和在线ESI-MS分析 | 第103-104页 |
3.3.2 DMO-甲醇溶液离线和在线ESI-MS分析 | 第104页 |
3.3.3 EG,MG等产物的甲醇溶液离线ESI-MS分析 | 第104-108页 |
3.3.4 20Cu/SiO_2催化剂常压DMO加氢在线检测分析 | 第108-110页 |
3.3.5 中间体信号的MS-MS多级质谱分析 | 第110-114页 |
3.3.6 5C_(60)-20Cu/SiO_2催化剂常压DMO加氢在线检测分析 | 第114-116页 |
3.4 结论 | 第116-117页 |
参考文献 | 第117-118页 |
第四章 全文总结 | 第118-120页 |
硕士期间取得的研究成果 | 第120-121页 |
致谢 | 第121-122页 |