论文目录 | |
| 摘要 | 第11-13页 |
| Abstract | 第13-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-35页 |
| 1.1 课题的研究背景和意义 | 第15-17页 |
| 1.2 DRM反应机理 | 第17-20页 |
| 1.3 DRM反应常用催化剂及其失活 | 第20-25页 |
| 1.3.1 常用催化剂的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.3.2 负载型贵金属催化剂 | 第21页 |
| 1.3.3 负载型非贵金属催化剂 | 第21-23页 |
| 1.3.4 其他金属氧化物、硫化物、碳化物催化剂 | 第23-24页 |
| 1.3.5 DRM反应催化剂失活 | 第24-25页 |
| 1.4 论文的目的与构想 | 第25-26页 |
| 1.5 论文组成与概要 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-35页 |
| 第二章 实验部分 | 第35-47页 |
| 2.1 主要试剂与规格 | 第35-36页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第36-38页 |
| 2.2.1 浸渍法制备Ni/SiO_2催化剂 | 第36-37页 |
| 2.2.2 NH_3·H_2O改性Ni/SiO_2催化剂 | 第37-38页 |
| 2.3 催化剂表征 | 第38-43页 |
| 2.3.1 N_2吸脱附表征(BET) | 第38页 |
| 2.3.2 电感耦合等离子体(ICP)表征 | 第38页 |
| 2.3.3 X射线粉末衍射(XRD)表征 | 第38页 |
| 2.3.4 热重(TG)表征 | 第38-39页 |
| 2.3.5 原位红外(in situ IR)光谱表征以及常规红外光谱表征(IR) | 第39-40页 |
| 2.3.6 程序升温还原(H_2-TPR)表征 | 第40-41页 |
| 2.3.7 高分辨透射电镜(HR-TEM)表征 | 第41-42页 |
| 2.3.8 程序升温氧化(TPO)表征 | 第42-43页 |
| 2.3.9 X射线光电子能谱(XPS)表征 | 第43页 |
| 2.4 DRM反应性能评价 | 第43-47页 |
| 第三章 不同前驱盐制备的Ni/SiO_2的性能及以Ni(acac)_2为前驱盐制备Ni/SiO_2的机理研究 | 第47-79页 |
| 3.1 引言 | 第47-48页 |
| 3.2 催化剂的制备及标注 | 第48-49页 |
| 3.2.1 催化剂的制备 | 第48-49页 |
| 3.2.2 催化剂的标注 | 第49页 |
| 3.3 不同前驱盐制备的Ni/SiO_2催化剂的表征和讨论 | 第49-65页 |
| 3.3.1 X射线粉末衍射(XRD)表征结果 | 第49-52页 |
| 3.3.2 透射电镜(TEM)表征结果 | 第52-54页 |
| 3.3.3 H_2-TPR表征结果 | 第54-55页 |
| 3.3.4 催化剂的DRM反应性能评价 | 第55-60页 |
| 3.3.5 反应后催化剂TEM图 | 第60-62页 |
| 3.3.6 反应后催化剂TG和TPO表征结果 | 第62-65页 |
| 3.3.6.1 TG表征结果 | 第62-64页 |
| 3.3.6.2 TPO表征结果 | 第64-65页 |
| 3.4 以Ni(acac)_2为前驱盐制备的Ni/SiO_2催化剂的表征及其制备机理 | 第65-73页 |
| 3.4.1 BET表征结果 | 第65页 |
| 3.4.2 XRD表征结果 | 第65-67页 |
| 3.4.3 TEM表征结果 | 第67-69页 |
| 3.4.4 H_2-TPR表征结果 | 第69-70页 |
| 3.4.5 in-situ IR表征结果 | 第70-73页 |
| 3.5 本章小结 | 第73-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 第四章 NH_3·H_2O对以Ni(NO_3)_2·6H_2O为前驱盐制备的Ni/SiO_2催化剂性能的影响 | 第79-108页 |
| 4.1 前言 | 第79-81页 |
| 4.2 催化剂的制备和标注 | 第81-82页 |
| 4.2.1 含镍催化剂的制备 | 第81页 |
| 4.2.2 NH_3·H_2O处理的载体制备 | 第81页 |
| 4.2.3 未添加SiO_2载体的镍氨络合物样品制备 | 第81-82页 |
| 4.3 DRM反应性能 | 第82-87页 |
| 4.3.1 DRM反应活性和稳定性测试 | 第82-85页 |
| 4.3.2 DRM反应积碳量表征 | 第85-87页 |
| 4.4 结构表征 | 第87-102页 |
| 4.4.1 比表面积(BET)测试 | 第87页 |
| 4.4.2 XRD表征 | 第87-88页 |
| 4.4.3 TEM表征 | 第88-89页 |
| 4.4.4 氨水的加入促进镍硅酸盐的生成 | 第89-91页 |
| 4.4.5 氨水与硝酸镍络合促进Ni在SiO_2载体上的分散 | 第91-96页 |
| 4.4.6 NH_3·H_2O对SiO_2载体的影响 | 第96-100页 |
| 4.4.7 pH值对Ni/SiO_2催化剂分散度的影响 | 第100-102页 |
| 4.5 本章小结 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-108页 |
| 致谢 | 第108页 |
