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石墨烯阵列场发射性能的研究

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石墨烯阵列场发射性能的研究

论文目录
摘要	第1-6页
Abstract	第6-9页
第一章绪论	第9-21页
1.1 场发射研究	第9-11页
1.2 石墨烯简介	第11-15页
1.2.1 石墨烯的结构和性能	第11-13页
1.2.2 石墨烯的应用	第13-15页
1.3 石墨烯场发射阴极研究现状	第15-20页
1.4 论文研究意义和研究内容	第20-21页
第二章石墨烯场发射模拟计算	第21-39页
2.1 数值计算分析方法	第22-26页
2.1.1 电场的数值计算	第22页
2.1.2 阴极场致电子发射计算	第22-24页
2.1.3 电子轨迹数值计算	第24-25页
2.1.4 数值计算过程设计	第25-26页
2.2 直立石墨烯环物理模型	第26-30页
2.3 依附石英柱生长的直立石墨烯环物理模型	第30-33页
2.4 依附石英凹槽生长的直立石墨烯环物理模型	第33-35页
2.5 三种模型的对比分析	第35-37页
2.6 本章小结	第37-39页
第三章石墨烯的制备及表征方法	第39-46页
3.1 石墨烯的制备方法	第39-41页
3.1.1 机械剥离法	第39页
3.1.2 外延生长法	第39页
3.1.3 化学气相沉积法	第39-40页
3.1.4 氧化还原法	第40页
3.1.5 液相剥离法	第40-41页
3.1.6 其他方法	第41页
3.2 石墨烯的表征方法	第41-45页
3.2.1 光学显微镜	第42页
3.2.2 扫描电子显微镜	第42-43页
3.2.3 拉曼光谱仪	第43-44页
3.2.4 透射电子显微镜	第44页
3.2.5 原子力显微镜	第44-45页
3.3 本章小结	第45-46页
第四章基底结构的制备	第46-53页
4.1 磁控溅射镀膜技术	第46页
4.2 光刻技术	第46-47页
4.3 铜和钛的湿法蚀刻	第47-48页
4.4 基底结构设计	第48-49页
4.5 基底结构制作过程	第49-51页
4.6 本章小结	第51-53页
第五章 CVD法制备石墨烯	第53-59页
5.1 实验设备	第53-54页
5.2 铜膜上生长石墨烯	第54-56页
5.2.1 实验过程	第54页
5.2.2 实验结果与讨论	第54-56页
5.3 CVD法制备直立石墨烯	第56-58页
5.3.1 实验过程	第56-57页
5.3.2 实验结果与讨论	第57-58页
5.4 本章小结	第58-59页
第六章总结	第59-61页
致谢	第61-63页
参考文献	第63-69页
作者简介	第69页

本篇论文共69页，点击这进入下载页面。

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