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CaCu3Ti4O12巨介电常数陶瓷介电弛豫机理与掺杂改性研究

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CaCu3Ti4O12巨介电常数陶瓷介电弛豫机理与掺杂改性研究
论文目录
 
摘要第1-6页
abstract第6-10页
1 绪论第10-24页
  1.1 前言第10页
  1.2 电介质陶瓷的弛豫机理和钙钛矿结构第10-17页
    1.2.1 电介质陶瓷的弛豫机理第10-16页
    1.2.2 钙钛矿和CCTO陶瓷的结构第16-17页
  1.3 CCTO陶瓷的发展概况第17-23页
    1.3.1 CCTO陶瓷巨介电常数来源的研究第17-18页
    1.3.2 双肖特基势垒模型与CCTO陶瓷的非线性I-V特性研究第18-21页
    1.3.3 CCTO陶瓷掺杂改性的研究第21-23页
  1.4 本文的研究思路和内容第23-24页
    1.4.1 研究思路第23页
    1.4.2 研究内容第23-24页
2 CCTO陶瓷的性能测试与介电机理分析第24-38页
  2.1 CCTO陶瓷的实验室制备第24-26页
  2.2 CCTO陶瓷的X射线衍射测试第26页
  2.3 CCTO陶瓷显微结构的测试第26-28页
  2.4 CCTO陶瓷的介电谱测试和极化机理分析第28-37页
    2.4.1 CCTO陶瓷的介电温谱测试和极化过程分析第29-31页
    2.4.2 阻抗谱和模量谱表征CCTO陶瓷的极化机理第31-34页
    2.4.3 CCTO陶瓷的变温I-V测试和肖特基势垒高度的表征第34-36页
    2.4.4 CCTO陶瓷弛豫活化能计算的等效性第36-37页
  2.5 本章小结第37-38页
3 标准CCTO陶瓷工艺参数的优化第38-48页
  3.1 不同的压片压强对CCTO陶瓷介电性能的影响第38-39页
  3.2 烧结温度对CCTO陶瓷介电性能的影响第39-40页
  3.3 烧结时间对CCTO陶瓷介电性能的影响第40-41页
  3.4 空气淬火对CCTO陶瓷介电性能的影响第41-42页
  3.5 气氛处理对CCTO陶瓷介电性能和缺陷结构的影响第42-46页
    3.5.1 样品气氛热处理说明第42-43页
    3.5.2 气氛处理对CCTO陶瓷介电性能的影响第43-44页
    3.5.3 气氛处理对CCTO陶瓷点缺陷结构的影响第44-46页
  3.6 本章小结第46-48页
4 受主Na掺杂对CCTO陶瓷介电性能和点缺陷结构的影响第48-54页
  4.1 XRD物相分析第48-49页
  4.2 显微结构分析第49页
  4.3 介电性能分析第49-51页
  4.4 Na掺杂对CCTO陶瓷点缺陷结构的影响第51-52页
  4.5 本章小结第52-54页
5 施主Nd掺杂对CCTO陶瓷介电性能和点缺陷结构的影响第54-60页
  5.1 XRD物相分析第54-55页
  5.2 显微结构分析第55-56页
  5.3 介电性能分析第56-57页
  5.4 Nd掺杂对CCTO陶瓷点缺陷结构的影响第57-59页
  5.5 本章小结第59-60页
6 结论和展望第60-62页
参考文献第62-68页
作者攻读学位期间发表学术论文清单第68-70页
致谢第70页

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