论文目录 | |
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-26页 |
| 1.1 酚类机污染物的来源 | 第13-14页 |
| 1.2 酚类机污染物的害 | 第14-16页 |
| 1.3 酚类机污染物的降解术研究展 | 第16-19页 |
| 1.3.1 常规物理学法 | 第16-17页 |
| 1.3.2 生物降解术 | 第17-18页 |
| 1.3.3 化学化和还原法 | 第18-19页 |
| 1.4 纳米铁术 | 第19-24页 |
| 1.4.1 纳米铁术研究展 | 第20-21页 |
| 1.4.2 纳米铁的制备方法 | 第21-22页 |
| 1.4.3 纳米铁在污染物降解中的足 | 第22-23页 |
| 1.4.4 纳米铁的改性术 | 第23-24页 |
| 1.5 本课的研究目的意义要研究内容 | 第24-26页 |
| 1.5.1 本课的研究目的意义 | 第24-25页 |
| 1.5.2 本课的要研究内容 | 第25-26页 |
| 第二章 改性的纳米零价铁的制备表 | 第26-39页 |
| 2.0 验材料装置 | 第26-27页 |
| 2.0.1 验材料 | 第26-27页 |
| 2.0.2 验装置流程 | 第27页 |
| 2.1 验方法骤 | 第27-30页 |
| 2.1.1 改性的纳米铁的制备 | 第27-29页 |
| 2.1.2 脱验流程 | 第29页 |
| 2.1.3 改性的纳米铁的检测和表方法 | 第29-30页 |
| 2.2 NH_2-SIO_2@NZVI的表观表征 | 第30-34页 |
| 2.2.1 SEM表征结果析 | 第30-31页 |
| 2.2.2 XRD表征结果析 | 第31-32页 |
| 2.2.3 EDS表征结果CHN元素分析结果 | 第32-33页 |
| 2.2.4 FT-IR表征结果析 | 第33-34页 |
| 2.3 NH_2-SIO_2@NZVI的性能分析 | 第34-37页 |
| 2.3.1 NH_2-Si O_2@NZVI的分散性 | 第34-35页 |
| 2.3.2 NH_2-Si O_2@NZVI的抗氧化性 | 第35-36页 |
| 2.3.3 NH_2-Si O_2@NZVI 2,4,6-三氯苯酚的降解效果析 | 第36-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 NH_2-SIO_2@NZVI制备条 研究 | 第39-50页 |
| 3.1 验设计方法 | 第39-40页 |
| 3.1.1 验设计 | 第39页 |
| 3.1.2 验方法 | 第39-40页 |
| 3.2 结果讨论析 | 第40-48页 |
| 3.2.1 Na BH4滴 率制备NH_2-Si O_2@NZVI性能的影响 | 第40-43页 |
| 3.2.2 TEOS投 制备NH_2-Si O_2@NZVI性能的影响 | 第43-46页 |
| 3.2.3 APTMS投 制备NH_2-Si O_2@NZVI性能的影响 | 第46-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 NH_2-SIO_2@NZVI降解 2,4,6-TCP影响因素 析 | 第50-61页 |
| 4.1 验材料方法 | 第50-52页 |
| 4.1.1 验材料 | 第50-51页 |
| 4.1.2 验方法 | 第51-52页 |
| 4.2 结果讨论析 | 第52-59页 |
| 4.2.1 NH_2-Si O_2@NZVI投 降解 2,4,6-TCP的影响 | 第52-53页 |
| 4.2.2 污染物浓度NH_2-Si O_2@NZVI降解 2,4,6-TCP的影响 | 第53-54页 |
| 4.2.3 初始p H NH_2-Si O_2@NZVI降解 2,4,6-TCP的影响 | 第54-55页 |
| 4.2.4 腐殖酸和宁酸NH_2-Si O_2@NZVI降解 2,4,6-TCP的影响 | 第55-56页 |
| 4.2.5 离子体系降解 2,4,6-TCP的影响 | 第56-58页 |
| 4.2.6 循使用NH_2-Si O_2@NZVI的影响 | 第58-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 NH_2-SIO_2@NZVI表面形态 规律作用机制析 | 第61-71页 |
| 5.1 验材料方法 | 第61-62页 |
| 5.1.1 验材料 | 第61页 |
| 5.1.2 验方法 | 第61-62页 |
| 5.2 结果讨论析 | 第62-69页 |
| 5.2.1 NH_2-Si O_2@NZVI前 表面形态析 | 第62-63页 |
| 5.2.2 NH_2-Si O_2@NZVI前 表面拉曼谱析 | 第63页 |
| 5.2.3 NH_2-Si O_2@NZVI前 表面XPS全谱 析 | 第63-64页 |
| 5.2.4 NH_2-Si O_2@NZVI Fe素XPS析 | 第64-66页 |
| 5.2.5 NH_2-Si O_2@NZVI Si素XPS析 | 第66-67页 |
| 5.2.6 NH_2-Si O_2@NZVI O素XPS析 | 第67-69页 |
| 5.2.7 NH_2-Si O_2@NZVI 2,4,6-TCP的降解机理 | 第69页 |
| 5.3 本章小结 | 第69-71页 |
| 结论展望 | 第71-74页 |
| 参考文献 | 第74-83页 |
| 攻读硕士学期间得的研究果 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 附件 | 第86页 |
