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钛微弧氧化膜的制备及其生长特性研究
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钛微弧氧化膜的制备及其生长特性研究
论文目录
摘要
第1-4 页
Abstract
第4-12 页
第一章 绪论
第12-29 页
· 微弧氧化介绍
第13 页
· 微弧氧化发展及现状
第13-15 页
· 微弧氧化机理
第15-24 页
· 微弧氧化的理化过程
第15-19 页
· 微弧氧化的电击穿机理
第19-24 页
· 微弧氧化技术的特点及其应用领域
第24-26 页
· 钛及其合金微弧氧化的研究现状
第26-27 页
· 论文题目的选择及主要内容
第27-29 页
第二章 微弧氧化设备及实验方法
第29-36 页
· 微弧氧化膜制备系统简介
第29-30 页
· 微弧氧化的工艺流程
第30 页
· 微弧氧化膜的表征手段
第30-31 页
· 微弧氧化过程
第31-32 页
· 影响氧化膜制备的因素
第32-34 页
· 微弧氧化材料的选择
第34-36 页
第三章 处理时间和电压对钛微弧氧化膜生长特性的影响
第36-50 页
· 引言
第36 页
· 样品的制备与表征方法
第36-37 页
· 处理时间对微弧氧化膜生长特性的影响
第37-44 页
· 处理时间对氧化膜厚度的影响
第37-38 页
· 处理时间对氧化膜相组成的影响
第38-40 页
· 处理时间对氧化膜表面形貌的影响
第40-44 页
· 电压对微弧氧化膜生长特性的影响
第44-48 页
· 电压对氧化膜膜厚度的影响
第44-45 页
· 电压对氧化膜相组成的影响
第45-46 页
· 电压对氧化膜表面形貌的影响
第46-48 页
· 本章小结
第48-50 页
第四章 脉冲频率和占空比对钛微弧氧化膜生长特性的影响
第50-62 页
· 引言
第50 页
· 样品的制备与表征方法
第50-51 页
· 脉冲频率对微弧氧化膜生长特性的影响
第51-56 页
· 频率对氧化膜厚度的影响
第51-52 页
· 频率对氧化膜相组成的影响
第52-54 页
· 频率对氧化膜表面形貌的影响
第54-56 页
· 占空比对微弧氧化膜生长特性的影响
第56-60 页
· 占空比对氧化膜厚度的影响
第56-57 页
· 占空比对氧化膜相组成的影响
第57-58 页
· 占空比对氧化膜表面形貌的影响
第58-60 页
· 本章小结
第60-62 页
第五章 表面颗粒状钛微弧氧化膜生长特性的研究
第62-69 页
· 引言
第62 页
· 样品的制备与表征方法
第62 页
· 处理时间对表面颗粒状微弧氧化膜生长特性的影响
第62-67 页
· 处理时间对氧化膜厚度的影响
第62-63 页
· 处理时间对氧化膜相组成的影响
第63-65 页
· 处理时间对氧化膜表面形貌的影响
第65-67 页
· 本章小结
第67-69 页
第六章 结论
第69-71 页
参考文献
第71-76 页
致谢
第76-77 页
附录(攻读硕士学位期间发表论文目录)
第77-78 页
本篇论文共
78
页,
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