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磁控溅射制备氮化钛薄膜及其结构与导电性能的研究
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磁控溅射制备氮化钛薄膜及其结构与导电性能的研究
论文目录
 
摘要第1-4 页
Abstract第4-8 页
第一章 绪论第8-20 页
　　· 氮化钛薄膜(TiN_x)的结构与性能第9-10 页
　　　　· 氮化钛薄膜的结构第9-10 页
　　　　· 氮化钛薄膜的性能第10 页
　　· 氮化钛薄膜的制备方法第10-14 页
　　　　· 溅射镀膜法第11 页
　　　　· 离子镀膜法第11-12 页
　　　　· 化学气相沉积法(CVD)第12-13 页
　　　　· 其它沉积方法第13-14 页
　　· 氮化钛薄膜研究现状第14-19 页
　　　　· 氮化钛薄膜的色泽第14-15 页
　　　　· 氮化钛薄膜机械性能与力学性能的研究第15 页
　　　　· 氮化钛薄膜的光学性能第15-16 页
　　　　· 氮化钛薄膜的电学性能第16-17 页
　　　　· 氮化钛薄膜的一些最新研究第17-19 页
　　· 本课题研究的内容及意义第19-20 页
第二章 磁控溅射技术制备TiN_x薄膜第20-27 页
　　· 溅射镀膜的原理第20-23 页
　　　　· 辉光放电的原理第20-22 页
　　　　· 溅射的过程第22-23 页
　　· 反应磁控溅射的原理第23-27 页
　　　　· 磁控溅射第23-25 页
　　　　· 反应溅射第25-27 页
第三章 氮化钛薄膜制备过程和结构性能测试第27-31 页
　　· 制备氮化钛薄膜的设备和源材料第27 页
　　· 氮化钛薄膜制备的实验过程第27-28 页
　　　　· 基片的清洗第27 页
　　　　· 氮化钛薄膜的制备第27-28 页
　　· 氮化钛薄膜的结构与导电性能测试第28-31 页
　　　　· 物相分析(X射线衍射)第28-29 页
　　　　· 表面形貌分析(原子力显微镜)第29 页
　　　　· 薄膜厚度测试(台阶仪)第29-30 页
　　　　· 电阻率测试(四探针测试仪)第30-31 页
第四章 测量结果与讨论第31-55 页
　　· 溅射电流对TiN_x薄膜的结构与导电性能的影响第31-37 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第31-32 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜表面形貌的影响第32-35 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜厚度的影响第35 页
　　　　· 溅射电流对TiN_x薄膜电阻率的影响第35-37 页
　　· 氮气流量对TiN_x薄膜的结构与导电性能影响第37-43 页
　　　　· 氮气流量对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第37-38 页
　　　　· 氮气流量对TiN_x薄膜表面形貌的影响第38-41 页
　　　　· 氮气流量对TiN_x薄膜厚度的影响第41-42 页
　　　　· 氮气流量对TiN_x薄膜电阻率的影响第42-43 页
　　· 溅射总气压对TiN_x薄膜的结构与导电性能影响第43-49 页
　　　　· 溅射总气压对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第43-44 页
　　　　· 溅射总气压对TiN_x薄膜表面形貌的影响第44-47 页
　　　　· 溅射总气压对TiN_x薄膜厚度的影响第47-48 页
　　　　· 溅射总气压对TiN_x薄膜电阻率的影响第48-49 页
　　· 基底温度对TiN_x薄膜结构与导电性能的影响第49-55 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜组分和结晶取向的影响第49-50 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜表面形貌的影响第50-53 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜厚度的影响第53 页
　　　　· 基底温度对TiN_x薄膜电阻率的影响第53-55 页
第五章 结论第55-57 页
致谢第57-58 页
参考文献第58-63 页
攻读学位期间的研究成果第63 页

本篇论文共63页，点击这进入下载页面。
 
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