界面修饰提高α-S光催化性能和稳定性研究 |
论文目录 | | | 摘要 | 第1-5页 | | ABSTRACT | 第5-9页 | | 第一章 绪论 | 第9-20页 | | 1.1 选题背景 | 第9页 | | 1.2 光催化的原理 | 第9-10页 | | 1.3 元素半导体光催化剂 | 第10-14页 | | 1.3.1 硫催化剂 | 第11页 | | 1.3.2 红磷催化剂 | 第11页 | | 1.3.3 黑磷量子点 | 第11-13页 | | 1.3.4 硅催化剂 | 第13页 | | 1.3.5 硒催化剂 | 第13-14页 | | 1.4 元素a-S的修饰改性方法 | 第14-17页 | | 1.4.1 石墨烯表面改性 | 第14-15页 | | 1.4.2 半导体复合 | 第15-17页 | | 1.5 本论文的主要研究内容与创新点 | 第17-20页 | | 1.5.1 本论文研究主要内容 | 第17-18页 | | 1.5.2 本论文创新点 | 第18-20页 | | 第二章 实验方法和数据处理 | 第20-26页 | | 2.1 药品与试剂 | 第20页 | | 2.2 氧化石墨烯的制备 | 第20-21页 | | 2.3 一步法制备SGx复合物 | 第21页 | | 2.4 CTAB辅助法制备a-S@r GO复合物 | 第21-22页 | | 2.5 a-S/P25异质结的制备 | 第22页 | | 2.6 催化剂活性测定 | 第22-23页 | | 2.7 光催化剂的表征 | 第23-26页 | | 2.7.1 X-射线多晶衍射（XRD） | 第23页 | | 2.7.2 透射电子显微镜（TEM） | 第23-24页 | | 2.7.3 光电子能谱（XPS） | 第24页 | | 2.7.4 紫外-可见漫反射（DRS） | 第24页 | | 2.7.5 扫描电子显微镜（SEM） | 第24-25页 | | 2.7.6 荧光光谱（PL） | 第25-26页 | | 第三章 一步法制备负载型a-S/r GO复合物及其光催化性能研究 | 第26-37页 | | 3.1 XRD分析 | 第26-27页 | | 3.2 扫描和透射电镜分析 | 第27-29页 | | 3.3 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第29-30页 | | 3.4 荧光光谱分析 | 第30-31页 | | 3.5 光电子能谱分析 | 第31-32页 | | 3.6 光催化性能分析 | 第32-35页 | | 3.7 催化剂的光化学稳定性 | 第35-36页 | | 小结 | 第36-37页 | | 第四章 CTAB辅助法制备S@r GO复合物及其光催化活性和稳定性研究 | 第37-49页 | | 4.1 XRD分析 | 第37-38页 | | 4.2 扫描电镜分析 | 第38-39页 | | 4.3 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第39-40页 | | 4.4 荧光光谱分析 | 第40-41页 | | 4.5 光电子能谱分析 | 第41-43页 | | 4.6 光催化性能分析 | 第43-46页 | | 4.7 稳定性分析 | 第46-47页 | | 4.8 光催化增强的反应机理 | 第47-48页 | | 小结 | 第48-49页 | | 第五章 S-P25异质结提高a-S光催化性能的研究 | 第49-61页 | | 5.1 XRD分析 | 第49-50页 | | 5.2 透射电镜分析 | 第50-51页 | | 5.3 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第51-52页 | | 5.4 荧光光谱分析 | 第52-53页 | | 5.5 光电子能谱分析 | 第53-55页 | | 5.6 S/P25复合物的光催化性能研究 | 第55-59页 | | 5.7 光催化性能增强的机理 | 第59-60页 | | 小结 | 第60-61页 | | 第六章 结论与展望 | 第61-62页 | | 参考文献 | 第62-70页 | | 攻读学位期间的研究成果及所获荣誉 | 第70-71页 | | 致谢 | 第71页 |
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