论文目录 | |
| 作者简介 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| ABSTRACT | 第9-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-27页 |
| §· 半导体材料简介 | 第15-19页 |
| · 半导体材料的种类及特性 | 第15-18页 |
| · 半导体材料发展简史 | 第18-19页 |
| §· TiO_2简介 | 第19-21页 |
| · TiO_2结构与性质 | 第19-20页 |
| · TiO_2光催化机理 | 第20-21页 |
| §· TiO_2纳米管 | 第21-25页 |
| · TiO_2纳米管制备方法 | 第22-23页 |
| · TiO_2纳米管改性研究 | 第23-24页 |
| · TiO2纳米管的应用研究 | 第24-25页 |
| §· 本论文研究内容及意义 | 第25-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-33页 |
| §· 实验试剂及实验仪器 | 第27-28页 |
| · 实验试剂 | 第27页 |
| · 实验仪器 | 第27-28页 |
| §· 实验方案 | 第28-30页 |
| §· 样品表征 | 第30-33页 |
| · 场发射扫描电镜(Field Emission Scanning Electron Microscope) | 第30-31页 |
| · X-射线衍射(X-ray Diffraction) | 第31页 |
| · 紫外-可见吸收光谱(Ultraviolet and Visible Spectroscopy) | 第31页 |
| · 光催化性能测试(Photocatalytic Activity Test) | 第31-33页 |
| 第三章 阳极氧化工艺制备TiO_2纳米管阵列 | 第33-43页 |
| §· 引言 | 第33页 |
| §· TiO_2纳米管阵列的形貌与结构分析 | 第33-35页 |
| · FESEM分析 | 第33-34页 |
| · XRD分析 | 第34-35页 |
| §· TiO_2纳米管阵列形貌的影响因素 | 第35-38页 |
| · 电解液F浓度 | 第35-36页 |
| · 阳极氧化电压 | 第36页 |
| · 阳极氧化时间 | 第36-37页 |
| · 热处理温度 | 第37-38页 |
| §· EDS能谱分析 | 第38-39页 |
| §· UV-vis表征 | 第39页 |
| §· 光催化性能研究 | 第39-40页 |
| §· 阳极氧化工艺制备TiO_2纳米管阵列生长机理研究 | 第40-41页 |
| §· 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 La~(3+)掺杂TiO_2纳米管阵列的制备 | 第43-49页 |
| §· 引言 | 第43页 |
| §· La~(3+)掺杂TiO_2纳米管阵列的形貌与结构分析 | 第43-45页 |
| · FESEM分析 | 第43-44页 |
| · XRD分析 | 第44-45页 |
| §· EDS能谱分析 | 第45-46页 |
| §· UV-vis表征 | 第46-47页 |
| §· 光催化性能研究 | 第47页 |
| §· 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 Er~(3+)掺杂TiO_2纳米管阵列的制备 | 第49-54页 |
| §· 引言 | 第49页 |
| §· TiO_2纳米管阵列的形貌与结构分析 | 第49-51页 |
| · FESEM分析 | 第49-50页 |
| · XRD分析 | 第50-51页 |
| §· EDS能谱分析 | 第51页 |
| §· UV-vis表征 | 第51-52页 |
| §· 光催化性能研究 | 第52-53页 |
| §· 本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 C修饰改性TiO_2纳米管阵列 | 第54-60页 |
| §· 引言 | 第54页 |
| §· TiO_2纳米管阵列的形貌与结构分析 | 第54-56页 |
| · FESEM分析 | 第54-55页 |
| · XRD分析 | 第55-56页 |
| §· EDS能谱分析 | 第56-57页 |
| §· UV-vis表征 | 第57页 |
| §· 光催化性能研究 | 第57-58页 |
| §· 本章小结 | 第58-60页 |
| 第七章 结论 | 第60-62页 |
| §· 本论文结论 | 第60-61页 |
| §· 不足 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
