硅纳米线阵列的制备及性能研究

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硅纳米线阵列的制备及性能研究

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硅纳米线阵列的制备及性能研究

论文目录
摘要	第1-10页
ABSTRACT	第10-12页
第一章绪论	第12-32页
· 引言	第12页
· 硅纳米材料的研究背景	第12页
· 硅纳米线的研究现状	第12-28页
· 硅的基本性质	第12-14页
· 硅纳米线的制备方法	第14-19页
· 硅纳米线的性能	第19-22页
· 硅纳米线的应用	第22-28页
· 其它硅纳米材料的研究现状	第28-30页
· 本文研究内容	第30-32页
第二章实验内容及测试方法	第32-36页
· 试剂与仪器	第32-33页
· 材料的表征方法	第33-36页
· X射线衍射	第33页
· 场发射扫描电镜	第33-34页
· 高分辨透射电镜	第34页
· 傅里叶红外光谱	第34页
· 拉曼光谱	第34-35页
· 光催化性能测试	第35-36页
第三章化学刻蚀法制备硅纳米线阵列	第36-55页
· 引言	第36-37页
· 实验部分	第37页
· 硅纳米线阵列的制备	第37页
· 硅片的清洗	第37页
· 制备过程	第37页
· 样品的表征	第37页
· 结果分析与讨论	第37-54页
· 各种实验参数对硅纳米线阵列的影响	第37-48页
· HF浓度对硅纳米线阵列的影响	第38-40页
· 硝酸银浓度对硅纳米线阵列的影响	第40-43页
· 反应温度对硅纳米线阵列的影响	第43-45页
· 反应时间对硅纳米线阵列的影响	第45-48页
· X射线衍射分析	第48-49页
· 拉曼光谱分析	第49-50页
· 漫反射光谱分析	第50-51页
· 硅纳米线阵列的生长机理	第51-52页
· 不同化学刻蚀法得到的两种特殊纳米结构	第52-54页
· 本章小结	第54-55页
第四章氢终端多孔硅纳米线阵列的光催化性能研究	第55-68页
· 引言	第55页
· 实验部分	第55-57页
· 多孔硅纳米阵列的制备	第55-56页
· 多孔硅纳米线阵列的修饰	第56页
· 样品的表征	第56页
· 光催化性能测试	第56-57页
· 结果分析与讨论	第57-67页
· 多孔硅纳米线阵列的扫描电镜与高分辨透射电镜分析	第57-59页
· 傅里叶变换红外光谱分析	第59页
· X射线衍射分析	第59-60页
· Pt、Au修饰多孔硅纳米线阵列的扫描电镜分析	第60-62页
· 光催化性能分析	第62-66页
· 光催化降解机理	第66-67页
· 本章小结	第67-68页
第五章结论	第68-69页
参考文献	第69-74页
致谢	第74-75页
攻读学位期间发表的学术论文	第75-76页
学位论文评阅及答辩情况表	第76 页

本篇论文共76页，点击这进入下载页面。

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