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电沉积制备Cu-Co合金镀层的工艺研究及性能表征

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电沉积制备Cu-Co合金镀层的工艺研究及性能表征
论文目录
 
摘要第1-10页
Abstract第10-12页
插图索引第12-14页
附表索引第14-15页
第1章 绪论第15-31页
  · 课题研究的背景及国内外研究现状第15-16页
    · 课题研究的背景第15-16页
    · 国内外的研究现状第16页
  · 合金电镀的概述第16-17页
  · 合金电镀的应用及分类第17-18页
  · 合金的电沉积第18-25页
    · 合金电沉积的过程第18-21页
    · 合金电沉积的类型第21页
    · 合金电沉积的条件第21-22页
    · 影响金属共沉积的因素第22-25页
  · 析氢对电沉积过程的影响第25-27页
    · 析氢对电镀过程的影响第25-26页
    · 影响氢过电位的因素第26-27页
  · 铜和钴的电沉积研究第27-29页
    · 铜的沉积机理第27页
    · 钴的沉积机理第27-29页
  · 课题研究的意义及主要内容第29-31页
    · 课题研究的意义第29页
    · 课题的主要研究内容第29-31页
第2章 试验材料及测试方法第31-35页
  · 试验材料及仪器第31-33页
    · 试验试剂第31页
    · 试验仪器第31-32页
    · 试验装置第32页
    · 基材及其处理第32页
    · 电沉积工艺及参数第32-33页
  · 测试方法第33-35页
    · 硬度第33页
    · 耐蚀性第33-34页
    · 耐高温性第34页
    · 结合力的测试第34页
    · 镀层形貌及结构组成分析第34-35页
第3章 铜钴合金的电沉积工艺研究第35-49页
  · 直流电沉积合金的工艺研究第35-44页
    · 表面活性剂的选择第35-37页
    · 正交试验设计第37-39页
    · 镀液成分对镀层组成的影响第39-42页
    · 工艺参数对镀层组成的影响第42-44页
    · 搅拌速度对镀层沉积的影响第44页
  · 脉冲工艺参数的确定第44-47页
    · 脉冲参数选择原则第45-46页
    · 占空比对合金镀层组成及显微硬度的影响第46-47页
    · 频率对合金镀层组成的影响第47页
  · 本章小结第47-49页
第4章 铜钴合金镀层的性能和结构研究第49-64页
  · 合金镀层在常温介质中的耐蚀性第49-57页
    · 酸性介质中的耐蚀性比较第49页
    · 碱性介质中的耐蚀性比较第49-50页
    · 中性介质中的耐蚀性比较第50-51页
    · 阳极极化曲线第51-52页
    · 合金镀层的阳极腐蚀第52页
    · 腐蚀的阳极过程第52-53页
    · 合金镀层与单金属镀层的耐蚀性比较第53-55页
    · 脉冲沉积中的扩散机理第55-57页
  · 合金镀层的耐高温氧化性第57-59页
    · 高温氧化后的微观形貌第57-58页
    · 高温氧化后的腐蚀比较第58页
    · 高温氧化腐蚀过程第58-59页
  · 合金镀层的显微硬度比较第59页
  · 晶粒大小对硬度的影响第59-60页
  · 镀层的相结构分析第60-62页
    · 占空比不同的XRD分析第60-62页
    · 电沉积方法不同的XRD分析第62页
  · 本章小结第62-64页
结论第64-66页
参考文献第66-69页
致谢第69-70页
附录A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文目录第70页

本篇论文共70页,点击这进入下载页面
 
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