软模板法制备BN纳米材料 |
论文目录 | | 摘要 | 第1-6页 | ABSTRACT | 第6-11页 | 第一章 绪论 | 第11-25页 | · 氮化硼的结构 | 第11-12页 | · 氮化硼纳米材料的性质与应用 | 第12-13页 | · 氮化硼纳米材料的制备方法 | 第13-21页 | · 溶剂热合成法 | 第14-15页 | · 气相沉积法 | 第15-17页 | · 高温热解法 | 第17-19页 | · 模板法 | 第19-21页 | · BN基纳米材料的发光 | 第21-22页 | · 本课题的研究目的与意义 | 第22-25页 | · 研究目的和意义 | 第22-23页 | · 主要研究内容 | 第23页 | · 研究方案 | 第23页 | · 创新性 | 第23-25页 | 第二章 实验与表征 | 第25-27页 | · 实验仪器及厂家 | 第25页 | · 实验药品以及厂家 | 第25-26页 | · 产物表征方法 | 第26-27页 | · X射线衍射仪(XRD) | 第26页 | · 扫描电子显微镜(SEM) | 第26页 | · 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第26页 | · 荧光光谱(PL) | 第26-27页 | 第三章 软模板法辅助制备高结晶度纳米氮化硼 | 第27-47页 | · 实验方法 | 第27-30页 | · 实验工艺流程 | 第27-30页 | · 实验过程 | 第30页 | · 前驱体表征和分析 | 第30-32页 | · 前驱体的XRD分析 | 第31页 | · 前驱体的FTIR分析 | 第31-32页 | · PEG模板法辅助 | 第32-40页 | · 制备杂化体方法的影响 | 第32-34页 | · 不同杂化方法的XRD分析 | 第33-34页 | · 不同杂化方法的SEM分析 | 第34页 | · 不同氨热处理温度的影响 | 第34-36页 | · 不同氨热处理温度的XRD分析 | 第35-36页 | · 不同氨热处理温度的SEM分析 | 第36页 | · 模板剂的用量 | 第36-38页 | · PEG2000不同用量的XRD分析 | 第37页 | · PEG2000不同用量的SEM分析 | 第37-38页 | · PEG不同分子量的影响 | 第38-40页 | · PEG不同分子量的XRD分析 | 第38-39页 | · PEG不同分子量的SEM分析 | 第39-40页 | · 表面活性剂辅助合成 | 第40-45页 | · 不同氨热处理温度的影响 | 第40-42页 | · 不同氨热处理温度的XRD分析 | 第40-42页 | · 不同氨热处理温度的SEM分析 | 第42页 | · 表面活性剂的用量 | 第42-44页 | · 十八胺不同用量的XRD分析 | 第42-43页 | · 十八胺不同用量的SEM分析 | 第43-44页 | · 不同表面活性剂的影响 | 第44-45页 | · 不同表面活性剂的XRD分析 | 第44-45页 | · 不同表面活性剂的SEM分析 | 第45页 | · 本章小结 | 第45-47页 | 第四章 氮化硼纳米材料的发光 | 第47-59页 | · PEG2000辅助合成样品 | 第47-51页 | · PEG2000辅助合成样品的XRD分析 | 第48-49页 | · PEG2000辅助合成样品的FTIR分析 | 第49-50页 | · PEG2000辅助合成样品的PL光谱分析 | 第50-51页 | · 有无软模板剂辅助合成 | 第51-53页 | · 有无软模板剂辅助合成的FTIR分析 | 第51-52页 | · 有无软模板剂辅助合成的荧光光谱分析 | 第52-53页 | · 不同分子量PEG对发光性能的影响 | 第53-55页 | · PEG不同分子量的FTIR分析 | 第53-54页 | · PEG不同分子量的PL谱分析 | 第54-55页 | · 表面活性剂对发光性能的影响 | 第55-57页 | · 不同表面活性剂的FTIR分析 | 第55-56页 | · 不同表面活性剂的PL谱分析 | 第56-57页 | · 本章小结 | 第57-59页 | 第五章 软模板法辅助合成氮化硼的机理 | 第59-61页 | 第六章 结论 | 第61-63页 | 参考文献 | 第63-67页 | 攻读硕士学位期间所取得的相关科研成果 | 第67-69页 | 致谢 | 第69-70页 |
|
|
|
| |