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硅掺杂-DLC硬盘保护膜的制备及等离子体诊断

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硅掺杂-DLC硬盘保护膜的制备及等离子体诊断
论文目录
 
摘要第1-5 页
AbStract第5-8 页
1.绪论第8-20 页
  · 选题意义第8 页
  · 微波-ECR等离子体增强溅射沉积简介第8-11 页
    · 微波-ECR等离子体源的特点第8-9 页
    · 微波-ECR等离子体增强溅射沉积装置第9-11 页
  · DLC膜发展现状、性能、应用及存在的问题第11-19 页
    · 类金刚石膜简介第11-12 页
    · 类金刚石膜的发展第12-13 页
    · 类金刚石膜的性能第13-14 页
    · 类金刚石膜的应用第14-16 页
    · 类金刚石膜的制备方法第16-18 页
    · DLC膜中存在的主要问题及改性第18-19 页
  · 研究内容第19-20 页
2. 朗缪尔单探针诊断第20-29 页
  · 实验装置第20-22 页
    · 探针装置第20-21 页
    · 探针诊断系统装置第21-22 页
  · 朗缪尔探针第22-24 页
    · 探针诊断的必要性第22 页
    · 朗缪尔探针的工作原理[39]第22-24 页
    · 由单探针I-V特性曲线获取等离子体参数第24 页
  · 探针诊断实验结果及讨论第24-28 页
    · 探针测量ECR等离子体参量的特性第24-26 页
    · 气体流量(工作气压)与等离子体参量的关系第26 页
    · 靶电流与等离子体参量之间的关系第26-28 页
  · 本章小结第28-29 页
3. Si-DLC膜的制备和表征第29-35 页
  · 引言第29 页
  · 沉积薄膜的实验过程第29-31 页
    · 基体及前处理方法第29-31 页
    · 薄膜的沉积第31 页
  · 薄膜的表征第31-34 页
  · 本章小结第34-35 页
4. 硅靶溅射偏压对Si-DLC膜结构和性能的影响第35-50 页
  · Si-DLC膜的沉积第35 页
  · 薄膜的生长速率第35-36 页
  · 类金刚石膜的化学结构表征第36-41 页
  · 薄膜的组分表征第41-43 页
  · 薄膜的形貌表征第43-45 页
  · 薄膜的硬度测试第45-46 页
  · Si-DLC薄膜的摩擦学性能第46-49 页
  · 本章小结第49-50 页
5. CH4流量对Si-DLC膜结构和性能的影响第50-56 页
  · 薄膜的沉积速率第50-51 页
  · 薄膜的化学结构表征第51-52 页
  · 薄膜的形貌分析第52-55 页
  · 本章小结第55-56 页
6. 总结与展望第56-58 页
参考文献第58-61 页
在读期间发表的论文第61-62 页
致谢第62-63 页

本篇论文共63页,点击这进入下载页面
 
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