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TiO2多孔薄膜的表面修饰及其光电化学性能
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TiO2多孔薄膜的表面修饰及其光电化学性能
论文目录
 
北京化工大学位论文原创性声明第1 页
关于论文使用授权的说明第2-4 页
学位论文数据集第4-5 页
摘要第5-7 页
ABSTRACT第7-17 页
第一章 绪论第17-25 页
　　· 引言第17-18 页
　　· TiO_2的微观结构第18-20 页
　　· TiO_2的表面修饰第20-24 页
　　　　· 纳米金属材料的表面修饰第20-21 页
　　　　· 无机纳米半导体材料的表面修饰第21 页
　　　　· 有机分子的表面修饰第21-24 页
　　　　　　· 光敏有机分子的表面修饰第21-22 页
　　　　　　· 非光敏有机分子的表面修饰第22-24 页
　　· 课题的提出和研究内容第24-25 页
第二章 吡啶修饰TiO_2多孔薄膜的制备第25-40 页
　　· 引言第25 页
　　· 实验第25-30 页
　　　　· 实验试剂第25-26 页
　　　　· TiO_2胶体的制备第26-28 页
　　　　· TiO_2多孔薄膜的制备第28 页
　　　　　　· 导电玻璃基底的处理第28 页
　　　　　　· TiO_2多孔薄膜的制备第28 页
　　　　　　· TiO_2多孔薄膜的高温处理第28 页
　　　　· 吡啶修饰TiO_2多孔薄膜制备方法第28-29 页
　　　　· 吡啶修饰TiO_2多孔薄膜的表征第29-30 页
　　　　　　· X射线粉末衍射(XRD)第29 页
　　　　　　· 扫描电镜(SEM)第29 页
　　　　　　· 傅立叶红外光谱(FTIR)第29-30 页
　　　　　　· X射线光电子能谱(XPS)第30 页
　　· 结果与讨论第30-39 页
　　　　· 吡啶修饰前后TiO_2多孔薄膜的晶型第30-32 页
　　　　· 吡啶修饰前后TiO_2多孔薄膜的表面形貌第32-33 页
　　　　· 傅立叶红外测试结果分析第33-34 页
　　　　· X射线光电子能谱测试结果分析第34-39 页
　　· 小结第39-40 页
第三章 吡啶修饰TiO_2多孔薄膜光电性能研究第40-52 页
　　· 引言第40 页
　　· 实验第40-41 页
　　　　· 实验试剂第40 页
　　　　· 紫外—可见透过光谱第40 页
　　　　· 电流—电压(I～V)曲线第40-41 页
　　　　· Mott-Schottky测试第41 页
　　　　· 可变电势光谱法测定平带电位第41 页
　　· 结果与讨论第41-51 页
　　　　· 紫外—可见透过结果分析第41-42 页
　　　　· 电流—电压(I～V)关系特性第42-44 页
　　　　· Mott-Schottky测试结果分析第44-46 页
　　　　· 可变电势光谱法测定平带电位结果分析第46-48 页
　　　　· 吡啶修饰TiO_2多孔薄膜的光电化学稳定性研究第48-51 页
　　· 小结第51-52 页
第四章 1-甲基咪唑、吡咯和噻吩修饰TiO_2多孔薄膜制备及其性能初步研究第52-56 页
　　· 引言第52 页
　　· 实验第52-53 页
　　　　· 实验试剂第52 页
　　　　· 1-甲基咪唑、吡咯和噻吩修饰TiO_2多孔薄膜的制备第52 页
　　　　· 1-甲基咪唑、吡咯和噻吩修饰TiO_2多孔薄膜的表征第52-53 页
　　· 结果与讨论第53-55 页
　　　　· 紫外—可见透过结果分析第53 页
　　　　· 1—甲基咪唑、吡咯和噻吩修饰TiO_2多孔薄膜电极I～V特性第53-55 页
　　· 小结第55-56 页
第五章 结论第56-57 页
参考文献第57-62 页
致谢第62-63 页
研究成果及发表学术论文第63-64 页
作者及导师简介第64页

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