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离子注入Si基片生长ZnO纳米团簇及其对ZnO薄膜生长行为的影响

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离子注入Si基片生长ZnO纳米团簇及其对ZnO薄膜生长行为的影响
论文目录
 
摘要第1-6 页
Abstract第6-11 页
1 绪论第11-22 页
  · ZnO的晶体结构第11-12 页
  · ZnO的基本性质第12-15 页
    · ZnO的基本物理参数第12-13 页
    · ZnO的光学特性第13-14 页
    · p-n特性第14 页
    · 其他特性第14-15 页
  · ZnO的应用第15-16 页
    · 作为GaN的缓冲层第15 页
    · 紫外探测器第15 页
    · 太阳能电池第15 页
    · 压敏陶瓷第15-16 页
    · ZnO发光二极管第16 页
  · ZnO薄膜制备方法第16-20 页
    · 溅射法(Sputtering)第16-17 页
    · 离子注入加热氧化法第17 页
    · 分子束外延(MBE)第17-18 页
    · 脉冲激光沉积(PLD)第18-19 页
    · 金属有机物化学气相沉积(MOCVD)第19 页
    · 溶胶-凝胶法(sol-gel)第19-20 页
    · 喷雾热分解法(Spray Pyrolysis)第20 页
  · ZnO薄膜的研究现状第20-21 页
  · 本论文的研究目的和内容第21-22 页
2 ZnO薄膜的制备及表征方法第22-34 页
  · 离子注入加热氧化方法制备ZnO纳米团簇第22-24 页
    · 离子注入的基本原理第22-23 页
    · 实验设备第23 页
    · 离子注入工艺参数第23-24 页
    · 热氧化处理第24 页
   2.2 反应磁控溅射技术制备ZnO薄膜第24-27 页
    · 反应溅射基本原理第24-25 页
    · 实验设备第25-27 页
    · 薄膜制备条件第27 页
    · 薄膜基片的常规化学清洗第27 页
  · 薄膜的表征方法第27-34 页
    · 薄膜微观结构的表征第27-29 页
    · 薄膜表面形貌的表征第29-31 页
    · 薄膜化学成:分的表征第31-32 页
    · TRIM程序估算离子注入过程第32-34 页
3 离子注入加热氧化法生长ZnO纳米团簇第34-47 页
  · 生长ZnO纳米团簇的提出第34-35 页
  · 注入Zn离子后未经氧化的表面分析第35-37 页
    · 注入Zn离子的计算结果第35-36 页
    · 注入Zn离子的表面形貌第36 页
    · 注入Zn离子的微观结构第36-37 页
    · 注入Zn离子的成分分析第37 页
  · 注入剂量对ZnO纳米团簇生长行为的影响第37-43 页
    · 注入剂量对Si基片表面形貌的影响第37-39 页
    · 注入不同剂量的Si基片表面截面图和表面粗糙度变化第39-40 页
    · 注入剂量对微观结构的影响第40-43 页
  · 氧化温度对ZnO纳米团簇生长行为的影响第43-46 页
    · ZnO纳米团簇的XRD分析第43-44 页
    · ZnO纳米团簇的TEM分析第44-46 页
  · 本章小结第46-47 页
4 离子注入对ZnO薄膜生长的影响第47-55 页
  · ZnO薄膜的XRD分析第48-49 页
  · ZnO薄膜的表面形貌及粗糙度分析第49-51 页
  · ZnO薄膜的微观结构分析第51-52 页
  · ZnO薄膜的定量分析第52-54 页
  · 本章小结第54-55 页
5 偏压对ZnO薄膜生长的影响第55-65 页
  · 固定偏压下薄膜的生长行为第56-62 页
    · 薄膜的形貌分析第56-58 页
    · 薄膜的粗糙度分析第58-59 页
    · 薄膜的定量分析第59-61 页
    · 薄膜的微观结构分析第61-62 页
  · 不同偏压下薄膜的生长行为第62-64 页
    · 薄膜的形貌及粗糙度分析第62-64 页
    · 薄膜的微观结构分析第64 页
  · 本章小结第64-65 页
结论第65-66 页
参考文献第66-69 页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第69-70 页
致谢第70-71 页

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