超声精细雾化化学机械抛光机理研究

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超声精细雾化化学机械抛光机理研究

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超声精细雾化化学机械抛光机理研究

论文目录
摘要	第1-4页
Abstract	第4-6页
目录	第6-8页
第一章绪论	第8-20页
· 集成电路的发展史	第8-11页
· 化学机械抛光技术	第11-14页
· 超声精细雾化化学机械抛光方法	第14-17页
· 超声雾化技术研究现状	第15-16页
· 传统CMP 技术理论	第16-17页
· 超声精细雾化CMP 机理研究	第17-18页
· 本课题主要研究内容	第18-20页
第二章试验仪器及试验软件	第20-26页
· 试验仪器	第20-23页
· 超声精细雾化CMP 系统	第20页
· 去离子水发生系统	第20-22页
· 十万分之一精密电子天平	第22页
· AFM 原子力显微镜	第22-23页
· 试验软件	第23-26页
第三章超声精细雾化中的雾粒特性	第26-42页
· 抛光液雾粒粒径计算	第26-27页
· 抛光液粒在导气管中的流动特性	第27-32页
· 抛光液雾粒在喷嘴处的流动特性	第32-34页
· 抛光液雾粒的附着性能研究	第34-37页
· 抛光参数对硅片表面材料去除率的影响试验	第37-41页
· 试验设备及试验条件	第37页
· 试验药剂	第37-38页
· 试验参数	第38页
· 试验结果与分析	第38-41页
· 本章小结	第41-42页
第四章超声精细雾化CMP 中的摩擦及试验分析	第42-52页
· 雾化抛光中的摩擦行为	第42-44页
· 粘着摩擦力分量计算	第43页
· 变形摩擦力分量计算	第43-44页
· 雾化抛光中的摩擦热	第44-47页
· 点热源产生的摩擦热	第45-46页
· 多个磨粒的摩擦热	第46-47页
· 雾化抛光中物理参数分布的有限元分析试验	第47-51页
· 接触模型创建	第48-49页
· 接触物理参数分析	第49-51页
· 本章小结	第51-52页
第五章雾化抛光中的磨损行为研究	第52-62页
· 磨粒磨损	第52-54页
· 粘着磨损	第54-57页
· 化学腐蚀磨损	第57页
· 硅片表面划痕试验	第57-60页
· 试验样品制备步骤	第57-58页
· 划痕试验	第58页
· 试验结果及讨论	第58-60页
· 本章小结	第60-62页
第六章结论与展望	第62-64页
· 结论	第62页
· 创新点	第62-63页
· 论文研究的不足	第63页
· 展望	第63-64页
致谢	第64-66页
参考文献	第66-69页
附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文	第69页

本篇论文共69页，点击这进入下载页面。

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