Ag/AgCl/BiMg_2VO_6复合光催化剂的制备及其可见光光催化性能研究

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Ag/AgCl/BiMg_2VO_6复合光催化剂的制备及其可见光光催化性能研究

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Ag/AgCl/BiMg_2VO_6复合光催化剂的制备及其可见光光催化性能研究

论文目录
中文摘要	第1-5页
Abstract	第5-10页
第1章绪论	第10-25页
· 引言	第10页
· 半导体光催化领域研究概述	第10-16页
· 半导体光催化作用的基本原理	第10-12页
· 提高半导体光催化活性的途径	第12-14页
· 催化剂的表现修饰与改性	第12-14页
· 复合半导体	第14页
· 半导体表面光敏化	第14页
· 光催化技术应用	第14-16页
· 光催化制氢	第14-15页
· 有机物降解	第15页
· 无机物降解	第15-16页
· 光催化抗菌领域	第16页
· 半导体光催化剂的制备方法	第16-19页
· 溶胶-凝胶法	第16-18页
· 溶胶-凝胶法的基本原理	第16-17页
· 溶胶-凝胶法在材料制备中的应用	第17-18页
· 水热或溶剂热法	第18页
· 其它合成方法	第18-19页
· 铋系光催化剂研究进展	第19-21页
· 铋氧化物光催化剂	第19页
· 钛酸铋系光催化剂	第19-20页
· 复合型铋系催化剂	第20页
· 卤氧化铋催化剂	第20-21页
· 卤化银半导体材料的研究背景及进展	第21-22页
· 关于反应活性物种	第22-24页
· 羟基自由基	第22页
· 价带空穴	第22-23页
· 超氧自由基和过氧化氢	第23-24页
· 本文的研究目的、内容及意义	第24-25页
第2章 Ag/AgCl/BiMg_2VO_6复合光催化剂的制备及其表征	第25-42页
· 实验部分	第25-32页
· 实验试剂及仪器	第25-26页
· Ag/AgCl/BiMg_2VO_6复合光催化剂的制备	第26-28页
· 分析方法及表征	第28-32页
· X射线衍射(XRD)分析	第28-29页
· 扫描电子显微镜(SEM)	第29-30页
· 透射电子显微镜(TEM)和高分辨率透射电镜(HRTEM)	第30页
· X射线能量分散谱(EDS)	第30-31页
· X射线光电子能谱仪(XPS)	第31页
· 紫外-可见漫反射光谱(UV-vis DRS)	第31-32页
· 光催化的表征结果分析	第32-41页
· XRD结果分析	第32-33页
· SEM结果分析	第33-34页
· TEM和HRTEM结果分析	第34-35页
· EDS结果分析	第35-36页
· XPS结果分析	第36-39页
· UV-vis DRS结果分析	第39-41页
· 小结	第41-42页
第3章 Ag/AgCl/BiMg_2VO_6复合光催化剂的光催化性能研究	第42-57页
· 实验部分	第42-43页
· 实验试剂及仪器	第42-43页
· 光催化降解实验	第43页
· 光催化降解实验结果与讨论	第43-55页
· 有机污染物的性质	第43-44页
· 酸性红G溶液最大吸收波长的确定	第44-45页
· 酸性红G溶液标准曲线的绘制	第45-46页
· 光催化剂活性评价	第46-55页
· 催化反应条件实验	第46-47页
· 染料初始浓度对光催化剂降解效果的影响	第47-48页
· 催化剂投加量对光催化剂降解效果的影响	第48-49页
· 不同焙烧温度对光催化剂降解效果的影响	第49-50页
· 不同焙烧时间对光催化剂降解效果的影响	第50-51页
· 不同光还原时间对光催化剂催化活性的影响	第51-53页
· Ag/AgCl最佳负载量的研究	第53-54页
· 循环实验	第54-55页
· 小结	第55-57页
第4章 Ag/AgCl/BiMg_2VO_6复合光催化剂的光催化反应机理初探	第57-67页
· 实验部分	第57-60页
· 实验试剂及仪器	第57-58页
· 紫外-可见光谱扫描	第58页
· 羟基自由基的测定	第58-59页
· 活性自由基的抑制实验	第59-60页
· 氧气对光催化反应的影响测定	第60页
· 实验结果与讨论	第60-66页
· 紫外-可见光谱扫描分析	第60-61页
· 羟基自由基测定结果分析	第61-62页
· 活性自由基抑制实验结果分析	第62-63页
· 氧气对光催化反应的影响结果分析	第63-64页
· 光催化反应机理研究	第64-66页
· 小结	第66-67页
第5章结论与展望	第67-69页
· 结论	第67-68页
· 展望	第68-69页
致谢(一)	第69-70页
致谢(二)	第70-71页
参考文献	第71-80页
附录	第80页

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