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g-C3N4基复合光催化剂制备及其含氯有机物还原脱氯性能研究

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g-C3N4基复合光催化剂制备及其含氯有机物还原脱氯性能研究
论文目录
 
致谢第1-6页
摘要第6-7页
Abstract第7-13页
1 绪论第13-33页
  · 引言第13-17页
    · 氯酚类物质的来源及危害第13-14页
    · 氯酚类物质的处理方法第14-17页
  · 光催化还原脱氯研究第17-21页
    · 光催化还原脱氯机理第17-20页
    · 光催化还原脱氯现状第20-21页
  · 半导体光催化剂及其修饰改性技术第21-29页
    · g-C_3N_4研究进展第21-22页
    · 贵金属表面修饰第22-24页
    · 半导体离子掺杂改性第24-25页
    · 异质结复合光催化体系第25-27页
    · Z-Scheme体系第27-29页
  · 选题依据、研究目的及内容第29-33页
    · 选题背景及依据第30-31页
    · 研究目的和意义第31页
    · 研究内容第31-33页
2 实验材料、仪器及分析方法介绍第33-39页
  · 实验材料和仪器第33-34页
    · 实验材料第33页
    · 实验仪器第33-34页
  · 催化剂活性评价第34页
  · 分析方法第34-35页
    · 污染物及产物浓度测定第34-35页
    · 碳摩尔质量平衡(Carbon Molar Mass Balance)计算第35页
  · 催化剂表征分析第35-39页
    · X-射线衍射(X-ray Diffraction, XRD)第36页
    · 扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope, SEM)第36页
    · 透射电镜显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM)第36页
    · X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)第36页
    · Brunauer-Emmett-Teller测试(BET)第36页
    · 紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS)第36-37页
    · 电化学表征第37-39页
3 g-C_3N_4/Bi_2MoO_6异质结光催化还原2,4-DCP性能研究第39-45页
  · 引言第39页
  · 催化剂制备方法第39页
  · 结果与讨论第39-44页
    · XRD第39-40页
    · SEM表征第40-41页
    · BET表征第41页
    · UV-vis DRS表征第41-42页
    · 光催化还原2,4-DCP效果实验第42-43页
    · 光催化还原2,4-DCP机理第43-44页
  · 本章小结第44-45页
4 g-C_3N_4/Bi_2MoO_6 Z型复合光催化剂催化还原2,4-DCP性能研究第45-59页
  · 引言第45页
  · 催化剂制备方法第45页
  · 结果与讨论第45-57页
    · XRD表征第45-46页
    · SEM表征第46-47页
    · TEM/HRTEM表征第47-48页
    · XPS表征第48-49页
    · BET表征第49-50页
    · UV-vis DRS表征第50-51页
    · i-t曲线第51-52页
    · EIS曲线第52-53页
    · 光催化还原2,4-DCP效果实验第53-56页
    · 光催化还原2,4-DCP机理第56-57页
  · 本章小结第57-59页
5 g-C_3N_4/Bi_2WO_6 Z型复合光催化剂催化还原2,4-DCP性能研究第59-71页
  · 引言第59页
  · 催化剂制备方法第59页
  · 结果与讨论第59-70页
    · XRD表征第59-60页
    · SEM表征第60-61页
    · TEM/HRTEM表征第61-62页
    · XPS表征第62-63页
    · BET表征第63-64页
    · UV-vis DRS表征第64-65页
    · i-t曲线第65-66页
    · EIS表征第66-67页
    · 光催化还原2,4-DCP效果实验第67-68页
    · 光催化还原2,4-DCP机理第68-70页
  · 本章小结第70-71页
6 结论、创新点及建议第71-73页
  · 结论第71-72页
  · 创新点第72页
  · 建议第72-73页
参考文献第73-81页
作者简历及攻读硕士学位期间发表的学术论文第81页

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