论文目录 | |
摘要 | 第1-5页 |
abstract | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 氧化铝概述 | 第10-13页 |
1.2.1 氢氧化铝 | 第11-12页 |
1.2.2 氧化铝 | 第12页 |
1.2.3 氧化铝与氢氧化铝之间的转化 | 第12-13页 |
1.3 γ- Al_2O_3的性质 | 第13-18页 |
1.3.1 γ- Al_2O_3的孔结构 | 第13-16页 |
1.3.2 γ- Al_2O_3的表面酸性 | 第16-18页 |
1.4 工业氧化铝的制备 | 第18-21页 |
1.4.1 醇铝水解法 | 第18页 |
1.4.2 酸碱沉淀法 | 第18-19页 |
1.4.3 碳化法 | 第19页 |
1.4.4 溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
1.4.5 有机溶剂合成法 | 第20页 |
1.4.6 过渡氧化铝再水化法 | 第20页 |
1.4.7 H_2O_2沉淀铝酸钠溶液法 | 第20-21页 |
1.5 氧化铝的改性研究 | 第21-24页 |
1.5.1 改变制备工艺 | 第21页 |
1.5.2 添加扩孔剂 | 第21-22页 |
1.5.3 助剂改性 | 第22-24页 |
1.6 国内外研究现状及存在的问题 | 第24-26页 |
1.6.1 国外相关产业和技术现状、发展趋势 | 第24-26页 |
1.6.2 国内相关产业和技术现状、发展趋势 | 第26页 |
1.7 本课题研究的目的和研究内容 | 第26-28页 |
第二章 实验部分 | 第28-34页 |
2.1 实验原料及仪器设备 | 第28页 |
2.2 实验方案及步骤 | 第28-30页 |
2.3 实验装置 | 第30-31页 |
2.3.1 重油微反装置 | 第30-31页 |
2.3.2 水热老化装置 | 第31页 |
2.4 催化剂的表征方法 | 第31-33页 |
2.4.1 射线衍射分析(XRD) | 第31页 |
2.4.2 N_2吸附-脱附分析 | 第31页 |
2.4.3 扫描电镜分析(SEM) | 第31-32页 |
2.4.4 透射电子显微镜测试 | 第32页 |
2.4.5 傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第32页 |
2.4.6 热重-差热分析(TG-DSC) | 第32页 |
2.4.7 核磁共振分析(NMR) | 第32-33页 |
2.4.8 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第33页 |
2.4.9 X射线荧光光谱分析(XRF) | 第33页 |
2.5 催化裂化微反产物分析 | 第33-34页 |
第三章 大孔容高比表面积拟薄水铝石的制备 | 第34-48页 |
3.1 温度对拟薄水铝石结构的影响 | 第34-36页 |
3.2 pH值对拟薄水铝石结构的影响 | 第36-39页 |
3.3 硅酸钠对拟薄水铝石结构的影响 | 第39-41页 |
3.4 pH值对硅酸钠改性拟薄水铝石结构的影响 | 第41-42页 |
3.5 铝的化学配位环境 | 第42-43页 |
3.6 拟薄水铝石焙烧后孔结构的研究 | 第43-46页 |
3.7 本章小结 | 第46-48页 |
第四章 硅改性氧化铝基质的酸性调变及反应性能评价 | 第48-72页 |
4.1 前言 | 第48页 |
4.2 硅含量对于基质中原子化学环境及表面酸性的影响 | 第48-55页 |
4.2.1 硅含量对于基质晶体结构的影响 | 第48-49页 |
4.2.2 硅含量对于基质中铝的配位环境的影响 | 第49-51页 |
4.2.3 硅含量对于基质表面羟基的影响 | 第51-52页 |
4.2.4 不同硅含量的基质材料的表面酸性位的分析 | 第52-55页 |
4.3 成胶pH值对于基质中原子化学环境及表面酸性的影响 | 第55-67页 |
4.3.1 成胶pH值对于基质晶体结构的影响 | 第55-56页 |
4.3.2 成胶pH值对于基质中铝原子化学环境的影响 | 第56-57页 |
4.3.3 成胶pH值对于基质中硅原子化学环境的影响 | 第57-59页 |
4.3.4 成胶pH值对于基质表面羟基的影响 | 第59-61页 |
4.3.5 不同成胶pH值的基质材料的酸性位的分析 | 第61-67页 |
4.4 基质的酸性位结构分析 | 第67-68页 |
4.5 基质的酸性位的热稳定性分析 | 第68-69页 |
4.6 反应性能评价 | 第69-71页 |
4.7 小结 | 第71-72页 |
结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-81页 |
攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第81-82页 |
致谢 | 第82页 |