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水基抛光材料去除机理的微观试验研究

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水基抛光材料去除机理的微观试验研究
论文目录
 
摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-17页
  · 课题的研究背景第7-10页
    · 课题来源第7页
    · 研究背景第7-8页
    · 化学机械抛光技术(CMP)及其影响因素第8-9页
    · CMP 技术的发展和存在的问题第9-10页
  · CMP 材料去除机理的国内外研究现状第10-15页
    · 材料连续去除机理第11-13页
    · 非连续去除机理(原子/分子去除机理)第13-15页
  · CMP 中机械作用对化学反应的控制关系的研究现状及分析第15-16页
  · 本课题的主要研究内容第16-17页
第二章 单晶硅在干摩擦和水润滑条件下的摩擦磨损性能研究第17-35页
  · 概述第17-21页
    · 单晶硅的性质和力学性能第17-18页
    · 材料磨损机理第18-19页
    · 硅片表面的抛光技术分类第19-20页
    · 硅片表面CMP 动力学过程分析第20-21页
  · 试验方法第21-25页
    · 实验原料和试剂第21页
    · 实验设备与仪器第21-24页
    · 实验方法第24-25页
  · 机械作用对摩擦磨损性能影响第25-34页
    · 载荷对摩擦系数与磨损率的影响第25-29页
    · 滑动速度对摩擦系数和磨损率的影响第29-33页
    · 磨损表面分析第33-34页
    · 单次磨痕深度分析第34页
  · 本章小结第34-35页
第三章 单晶硅在H_20_2介质和静态H_20_2腐蚀条件下的摩擦磨损性能研究第35-49页
  · 单晶硅的微观机械和摩擦磨损性能研究的意义第35-36页
    · 氧化剂为H_20_2 的CMP 抛光液第35页
    · 单晶硅片加工表面层损伤第35-36页
    · 单晶硅CMP 过程的摩擦性能研究第36页
  · 试验方法第36-37页
    · 实验原料及设备第36页
    · 实验方法第36-37页
  · 实验结果及分析第37-46页
    · 载荷对摩擦系数与磨损率的影响第37-41页
    · 滑动速度对摩擦系数和磨损率的影响第41-45页
    · 磨损表面分析第45-46页
    · 单次磨痕深度分析第46页
  · 本章小结第46-49页
第四章 化学机械抛光中机械作用对化学反应的控制影响规律第49-59页
  · 载荷对摩擦磨损性能的影响第49-52页
    · 摩擦系数第49页
    · 磨损率第49-50页
    · 磨损表面分析第50-52页
  · 滑动速度对摩擦磨损性能的影响第52-55页
    · 摩擦系数第52-53页
    · 磨损率第53页
    · 磨损表面分析第53-55页
  · AFM 微观划痕试验第55-59页
    · 实验方法第56页
    · 结果与分析第56-59页
第五章 总结与展望第59-61页
  · 总结第59-60页
  · 创新点第60页
  · 展望第60-61页
致谢第61-63页
参考文献第63-67页
附录 作者在攻读硕士学位期间发表的论文第67页

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