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铒掺杂二氧化钛膜的制备及其光催化性能研究

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铒掺杂二氧化钛膜的制备及其光催化性能研究
论文目录
 
摘要第1-5页
ABSTRACT第5-11页
第一章 文献综述第11-27页
  1.1 前言第11页
  1.2 半导体光催化概述第11-15页
    1.2.1 研究进展第11-12页
    1.2.2 半导体光催化材料第12页
    1.2.3 半导体光催化的原理第12-14页
    1.2.4 光生载流子的复合第14-15页
  1.3 二氧化钛概述第15-19页
    1.3.1 二氧化钛的结构和性质第15-16页
    1.3.2 影响TiO_2光催化活性的因素第16-18页
    1.3.3 二氧化钛光催化存在的问题第18-19页
  1.4 二氧化钛改性第19-22页
    1.4.1 贵金属沉积法第19-20页
    1.4.2 半导体复合第20页
    1.4.3 表面光敏化第20-21页
    1.4.4 离子掺杂第21-22页
  1.5 二氧化钛膜第22-25页
    1.5.1 无机膜第23页
    1.5.2 二氧化钛膜的制备第23-24页
    1.5.3 二氧化钛膜的应用第24-25页
  1.6 本论文的意义及研究内容第25-27页
    1.6.1 研究意义第25-26页
    1.6.2 研究内容第26-27页
第二章 实验部分第27-33页
  2.1 实验药品及仪器第27-28页
    2.1.1 实验药品与试剂第27页
    2.1.2 实验仪器及设备第27-28页
  2.2 玻璃载体的预处理第28页
  2.3 二氧化钛薄膜的制备第28-29页
    2.3.1 铒掺杂二氧化钛溶胶的制备第28页
    2.3.2 添加司班80的二氧化钛溶胶的制备第28-29页
    2.3.3 二氧化钛薄膜的制备第29页
  2.4 表征与测试第29-31页
    2.4.1 X-射线衍射(XRD)第29-30页
    2.4.2 扫描电镜(SEM)第30页
    2.4.3 固体紫外-可见漫反射(UV-Vis)第30页
    2.4.4 热重分析(TG-DTG)第30页
    2.4.5 氮气吸附-脱附第30-31页
    2.4.6 紫外-可见分光光度计第31页
  2.5 光催化实验第31-33页
    2.5.1 模拟污染物的选择第31页
    2.5.2 甲基橙溶液标准工作曲线的绘制第31-32页
    2.5.3 光催化实验步骤第32-33页
第三章 铒掺杂二氧化钛薄膜的制备及其光催化性能第33-49页
  3.1 引言第33-34页
  3.2 薄膜的制备第34页
  3.3 结果与讨论第34-42页
    3.3.1 TG-DTG图第34-35页
    3.3.2 不同涂膜层数的薄膜第35-36页
    3.3.3 不同铒含量的薄膜第36-39页
    3.3.4 不同煅烧温度的薄膜第39-41页
    3.3.5 不同煅烧时间的薄膜第41-42页
  3.4 铒掺杂二氧化钛薄膜的光催化性能第42-48页
    3.4.1 光催化实验第42-43页
    3.4.2 膜的光催化性能第43-48页
  3.5 本章小结第48-49页
第四章 改性Er~(3+)-TiO_2薄膜的制备及其光催化性能第49-57页
  4.1 改性Er~(3+)-TiO_2薄膜的制备第49-50页
  4.2 TG-DTG分析第50-51页
  4.3 XRD表征第51-52页
  4.4 薄膜的SEM图第52-53页
  4.5 氮吸附表征第53-55页
  4.6 光催化活性第55页
  4.7 本章小结第55-57页
第五章 结论及展望第57-59页
  5.1 结论第57-58页
  5.2 展望第58-59页
参考文献第59-67页
附录第67-69页
致谢第69-71页
攻读学位期间发表的学术论文目录第71页

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