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电催化剂的肤层修饰及锗上金属膜的化学沉积

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电催化剂的肤层修饰及锗上金属膜的化学沉积
论文目录
 
摘要第1-8页
Abstract第8-11页
第一章 绪论第11-34页
  1.1 引言第11页
  1.2 燃料电池第11-14页
    1.2.1 燃料电池催化剂第12-13页
    1.2.2 Pt肤层催化剂第13-14页
  1.3 Pt肤层催化剂制备第14-17页
    1.3.1 UPD-置换技术第15-16页
    1.3.2 模拟欠电位沉积(MUPD)方法第16-17页
  1.4 反应体系介绍第17-20页
    1.4.1 甲酸氧化反应第17-18页
    1.4.2 氧气还原反应第18-20页
  1.5 碱性介质中研究现状第20-24页
    1.5.1 表面增强红外光谱(SEIRAS)第20-21页
    1.5.2 Ge红外窗口第21-22页
    1.5.3 金属薄膜的制备第22-23页
    1.5.4 Ge上制备金属薄膜第23-24页
  1.6 本论文的研究目的以及意义第24-26页
参考文献第26-34页
第二章 实验技术及试剂第34-42页
  2.1 实验主要试剂及实验仪第34-35页
    2.1.1 化学试剂及药品第34-35页
    2.1.2 实验仪器第35页
  2.2 材料的物相表征第35-38页
    2.2.1 场发射-扫描电子显微镜(FE-SEM)第35-36页
    2.2.2 透射电子显微镜(TEM)第36页
    2.2.3 感应耦合等离子体-原子发射光谱(ICP-AES)第36-37页
    2.2.4 X射线光电子能谱(XPS)第37页
    2.2.5 X射线衍射谱(XRD)第37-38页
  2.3 电化学表征第38-41页
    2.3.1 催化剂表征电解池第38页
    2.3.2 光谱电解池第38-39页
    2.3.3 旋转圆盘电极(RDE)第39-40页
    2.3.4 循环伏安法(CV)第40页
    2.3.5 计时电流法(Chronoamperometry)第40-41页
参考文献第41-42页
第三章 模拟欠电位沉积(MUPD)技术的拓展第42-57页
  3.1 前言第42-43页
  3.2 MUPD-置换法在Au表面修饰Pt第43-49页
    3.2.1 还原剂的筛选第43页
    3.2.2 Au@Pt的制备第43-45页
    3.2.3 结果与讨论第45-49页
  3.3 MUPD-置换法在Pd/C表面修饰Pt-Pd第49-54页
    3.3.1 Pd@Pd-Pt/C的制备第50页
    3.3.2 结果与讨论第50-54页
  3.4 小结及展望第54-55页
参考文献第55-57页
第四章 旋转电极欠电位沉积方法探索第57-71页
  4.1 前言第57-58页
  4.2 实验部分第58页
    4.2.1 催化剂的制备第58页
    4.2.2 催化剂的表征第58页
  4.3 结果与讨论第58-68页
    4.3.1 Pd black@Pt的物相及电化学表征第59-60页
    4.3.2 Pd@Pt/C的物相及电化学表征第60-63页
    4.3.3 Pt@Pd/C的电化学测试第63-64页
    4.3.4 Pt@Au/C的物相及电化学表征第64-68页
  4.4 小结与展望第68-69页
参考文献第69-71页
第五章 Ge基底上化学沉积Au、Pd金属薄膜第71-84页
  5.1 前言第71-72页
  5.2 纳米薄膜的制备第72-74页
    5.2.1 镀液的配制第73页
    5.2.2 Ge片的表面处理第73页
    5.2.3 薄膜的制备第73页
    5.2.4 电化学测试第73-74页
  5.3 结果与讨论第74-81页
    5.3.1 金属薄形貌及组分表征第74-78页
    5.3.2 金属薄膜电化学测试第78-81页
  5.4 小结与展望第81-82页
参考文献第82-84页
攻读硕士期间发表论文第84-85页
致谢第85-86页

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