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电催化剂的肤层修饰及锗上金属膜的化学沉积
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电催化剂的肤层修饰及锗上金属膜的化学沉积
论文目录
摘要
第1-8页
Abstract
第8-11页
第一章 绪论
第11-34页
1.1 引言
第11页
1.2 燃料电池
第11-14页
1.2.1 燃料电池催化剂
第12-13页
1.2.2 Pt肤层催化剂
第13-14页
1.3 Pt肤层催化剂制备
第14-17页
1.3.1 UPD-置换技术
第15-16页
1.3.2 模拟欠电位沉积(MUPD)方法
第16-17页
1.4 反应体系介绍
第17-20页
1.4.1 甲酸氧化反应
第17-18页
1.4.2 氧气还原反应
第18-20页
1.5 碱性介质中研究现状
第20-24页
1.5.1 表面增强红外光谱(SEIRAS)
第20-21页
1.5.2 Ge红外窗口
第21-22页
1.5.3 金属薄膜的制备
第22-23页
1.5.4 Ge上制备金属薄膜
第23-24页
1.6 本论文的研究目的以及意义
第24-26页
参考文献
第26-34页
第二章 实验技术及试剂
第34-42页
2.1 实验主要试剂及实验仪
第34-35页
2.1.1 化学试剂及药品
第34-35页
2.1.2 实验仪器
第35页
2.2 材料的物相表征
第35-38页
2.2.1 场发射-扫描电子显微镜(FE-SEM)
第35-36页
2.2.2 透射电子显微镜(TEM)
第36页
2.2.3 感应耦合等离子体-原子发射光谱(ICP-AES)
第36-37页
2.2.4 X射线光电子能谱(XPS)
第37页
2.2.5 X射线衍射谱(XRD)
第37-38页
2.3 电化学表征
第38-41页
2.3.1 催化剂表征电解池
第38页
2.3.2 光谱电解池
第38-39页
2.3.3 旋转圆盘电极(RDE)
第39-40页
2.3.4 循环伏安法(CV)
第40页
2.3.5 计时电流法(Chronoamperometry)
第40-41页
参考文献
第41-42页
第三章 模拟欠电位沉积(MUPD)技术的拓展
第42-57页
3.1 前言
第42-43页
3.2 MUPD-置换法在Au表面修饰Pt
第43-49页
3.2.1 还原剂的筛选
第43页
3.2.2 Au@Pt的制备
第43-45页
3.2.3 结果与讨论
第45-49页
3.3 MUPD-置换法在Pd/C表面修饰Pt-Pd
第49-54页
3.3.1 Pd@Pd-Pt/C的制备
第50页
3.3.2 结果与讨论
第50-54页
3.4 小结及展望
第54-55页
参考文献
第55-57页
第四章 旋转电极欠电位沉积方法探索
第57-71页
4.1 前言
第57-58页
4.2 实验部分
第58页
4.2.1 催化剂的制备
第58页
4.2.2 催化剂的表征
第58页
4.3 结果与讨论
第58-68页
4.3.1 Pd black@Pt的物相及电化学表征
第59-60页
4.3.2 Pd@Pt/C的物相及电化学表征
第60-63页
4.3.3 Pt@Pd/C的电化学测试
第63-64页
4.3.4 Pt@Au/C的物相及电化学表征
第64-68页
4.4 小结与展望
第68-69页
参考文献
第69-71页
第五章 Ge基底上化学沉积Au、Pd金属薄膜
第71-84页
5.1 前言
第71-72页
5.2 纳米薄膜的制备
第72-74页
5.2.1 镀液的配制
第73页
5.2.2 Ge片的表面处理
第73页
5.2.3 薄膜的制备
第73页
5.2.4 电化学测试
第73-74页
5.3 结果与讨论
第74-81页
5.3.1 金属薄形貌及组分表征
第74-78页
5.3.2 金属薄膜电化学测试
第78-81页
5.4 小结与展望
第81-82页
参考文献
第82-84页
攻读硕士期间发表论文
第84-85页
致谢
第85-86页
本篇论文共
86
页,
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