保护基控制的(2,3)-反式手性吡咯烷类化合物的合成研究 |
论文目录 | | | 摘要 | 第1-3页 | | ABSTRACT | 第3-6页 | | 引言 | 第6-7页 | | 1 文献综述 | 第7-22页 | | 1.1 有机合成中的保护基及基本原则 | 第7页 | | 1.2 氨基的保护及三氟乙酰基在保护基中的应用 | 第7-10页 | | 1.3 吡咯烷相关介绍 | 第10-19页 | | 1.3.1 吡咯烷结构的应用 | 第10-14页 | | 1.3.2 吡咯烷化合物的合成介绍 | 第14-19页 | | 1.4 顺反异构现象的相关介绍 | 第19-21页 | | 1.5 选题背景 | 第21页 | | 1.6 选题目标 | 第21-22页 | | 2 实验部分 | 第22-32页 | | 2.1 实验仪器、药品 | 第22-23页 | | 2.1.1 实验仪器 | 第22页 | | 2.1.2 实验药品 | 第22-23页 | | 2.2 反应底物的合成 | 第23-26页 | | 2.2.1 苯环上不同取代基的 Α,Β-不饱和醛的一般制备过程 | 第23-24页 | | 2.2.2 苯环上不同取代基的 α,β-不饱和醛的其他制备过程 | 第24页 | | 2.2.3 三氟乙酰胺甲基丙酮的制备过程 | 第24-25页 | | 2.2.4 三氟乙酰胺基丙酮的其他制备过程 | 第25-26页 | | 2.3 催化剂的合成 | 第26-27页 | | 2.4 三氟乙酰胺甲基丙酮类与肉桂醛类的反应 | 第27-32页 | | 3 结果与讨论 | 第32-37页 | | 3.1 实验条件的筛选 | 第32-35页 | | 3.1.1 添加剂苯甲酸类的优化 | 第32-34页 | | 3.1.2 反应溶剂种类以及反应浓度的优化 | 第34-35页 | | 3.2 底物的扩展以及实验结果 | 第35-37页 | | 结论 | 第37-38页 | | 参考文献 | 第38-41页 | | 附录A 相关化合物的核磁图 | 第41-66页 | | 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第66-67页 | | 致谢 | 第67-69页 |
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