氢化纳米硅薄膜缺陷结构及材料后氧化机制研究

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氢化纳米硅薄膜缺陷结构及材料后氧化机制研究

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氢化纳米硅薄膜缺陷结构及材料后氧化机制研究

论文目录
附件	第1-6页
答辩决议书(讨论稿)	第6-7页
摘要	第7-9页
ABSTRACT	第9-11页
目录	第11-13页
第一章绪论	第13-16页
· 研究背景与现状	第13-14页
· 本文的主要工作	第14-16页
第二章氢化纳米硅薄膜材料性质及表征分析	第16-33页
· 硅基材料类别及其性质	第16-18页
· 单晶硅(c-Si)	第16页
· 非晶硅(a-Si)	第16-17页
· 混相硅基材料	第17页
· 氢化纳米硅(nc-Si:H)	第17-18页
· 氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜表征分析	第18-31页
· 微观结构形貌表征	第18-20页
· 光学表征	第20-29页
· 电学表征	第29-31页
· 本章小结	第31-32页
参考文献	第32-33页
第三章生长机理与纳米硅制备工艺	第33-53页
· 氢化纳米硅薄膜微观生长机理	第33-35页
· 氢化纳米硅薄膜的宏观生长理论模型	第35-39页
· 表面扩散模型	第35-36页
· 刻蚀模型	第36-37页
· 化学退火模型	第37页
· 离子轰击模型	第37-39页
· 常用纳米硅薄膜制备方法及工艺	第39-43页
· 真空蒸发法	第39-40页
· 磁控溅射法	第40-41页
· 激光烧蚀法(LCVD)	第41-42页
· 热丝化学气相沉积(HWCVD)	第42-43页
· PECVD 设备介绍及操作方法	第43-48页
· PECVD 制备氢化纳米硅薄膜工艺	第48-50页
· 本章小结	第50-51页
参考文献	第51-53页
第四章氢化纳米硅薄膜缺陷结构及材料后氧化机制研究	第53-77页
· 引言	第53-54页
· 氢化纳米硅氢稀释比样品制备及实验测试	第54-56页
· 氢化纳米硅薄膜微结构物性表征分析	第56-62页
· 氢化纳米硅薄膜样品硅氧成键结构形态	第62-66页
· 氢化纳米硅薄膜结构演变及后氧化机制	第66-72页
· 本章小结	第72-74页
参考文献	第74-77页
第五章结论	第77-79页
· 本文的主要结论和创新点	第77-78页
· 下一步的工作及展望	第78-79页
附录	第79-86页
致谢	第86-87页
攻读硕士学位期间发表论文	第87页

本篇论文共87页，点击这进入下载页面。

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