论文目录 | |
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第1章 绪论 | 第8-21页 |
1.1 选题背景及研究意义 | 第8-10页 |
1.2 文献综述 | 第10-19页 |
1.2.1 电磁净化技术的发展概况及基本原理 | 第10-12页 |
1.2.2 电磁净化技术发展现状 | 第12-19页 |
1.3 本文主要研究内容 | 第19-21页 |
第2章 实验材料、装置与研究方法 | 第21-27页 |
2.1 实验材料的选择 | 第21页 |
2.2 实验装置 | 第21-24页 |
2.3 实验方法 | 第24-25页 |
2.4 分析表征 | 第25-27页 |
第3章 行波磁场下初生硅颗粒及流场分布规律研究 | 第27-35页 |
3.1 行波磁场熔体中初生硅颗粒分布规律研究 | 第27-28页 |
3.2 行波磁场熔体中流场分布规律研究 | 第28-34页 |
3.2.1 行波磁场中熔体流动 | 第28-32页 |
3.2.2 行波磁场熔体中流场分布及夹杂物分布数值模拟 | 第32-34页 |
3.3 小结 | 第34-35页 |
第4章 行波磁场净化技术研究 | 第35-55页 |
4.1 磁场强度对初生硅颗粒分布规律影响 | 第35-42页 |
4.1.1 频率 50Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第35-38页 |
4.1.2 频率 100Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第38-39页 |
4.1.3 频率 200Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第39-41页 |
4.1.4 讨论与分析 | 第41-42页 |
4.2 磁场频率对初生硅颗粒分布规律影响 | 第42-48页 |
4.2.1 电流 20A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第42-43页 |
4.2.2 电流 50A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第41-44页 |
4.2.3 电流 80A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第44-45页 |
4.2.4 电流 110A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第45-46页 |
4.2.5 讨论与分析 | 第46-48页 |
4.3 磁场作用时间对初生硅颗粒分布规律影响 | 第48-54页 |
4.3.1 20A,50Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第48-49页 |
4.3.2 50A,100Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第49-50页 |
4.3.3 80A,50Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第50-51页 |
4.3.4 讨论与分析 | 第51-54页 |
4.4 小结 | 第54-55页 |
第5章 结论与展望 | 第55-58页 |
5.1 主要结论 | 第55页 |
5.2 未来研究工作与展望 | 第55-58页 |
5.2.1 工业应用问题 | 第55-56页 |
5.2.2 未来研究工作的展望 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
致谢 | 第62-64页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第64 |