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熔体行波磁场净化技术研究

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熔体行波磁场净化技术研究
论文目录
 
摘要第1-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第8-21页
    1.1 选题背景及研究意义第8-10页
    1.2 文献综述第10-19页
        1.2.1 电磁净化技术的发展概况及基本原理第10-12页
        1.2.2 电磁净化技术发展现状第12-19页
    1.3 本文主要研究内容第19-21页
第2章 实验材料、装置与研究方法第21-27页
    2.1 实验材料的选择第21页
    2.2 实验装置第21-24页
    2.3 实验方法第24-25页
    2.4 分析表征第25-27页
第3章 行波磁场下初生硅颗粒及流场分布规律研究第27-35页
    3.1 行波磁场熔体中初生硅颗粒分布规律研究第27-28页
    3.2 行波磁场熔体中流场分布规律研究第28-34页
        3.2.1 行波磁场中熔体流动第28-32页
        3.2.2 行波磁场熔体中流场分布及夹杂物分布数值模拟第32-34页
    3.3 小结第34-35页
第4章 行波磁场净化技术研究第35-55页
    4.1 磁场强度对初生硅颗粒分布规律影响第35-42页
        4.1.1 频率 50Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第35-38页
        4.1.2 频率 100Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第38-39页
        4.1.3 频率 200Hz 不同电流下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第39-41页
        4.1.4 讨论与分析第41-42页
    4.2 磁场频率对初生硅颗粒分布规律影响第42-48页
        4.2.1 电流 20A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第42-43页
        4.2.2 电流 50A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第41-44页
        4.2.3 电流 80A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第44-45页
        4.2.4 电流 110A 不同频率下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第45-46页
        4.2.5 讨论与分析第46-48页
    4.3 磁场作用时间对初生硅颗粒分布规律影响第48-54页
        4.3.1 20A,50Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第48-49页
        4.3.2 50A,100Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第49-50页
        4.3.3 80A,50Hz 不同时间下铝硅合金中初生硅颗粒的分布规律第50-51页
        4.3.4 讨论与分析第51-54页
    4.4 小结第54-55页
第5章 结论与展望第55-58页
    5.1 主要结论第55页
    5.2 未来研究工作与展望第55-58页
        5.2.1 工业应用问题第55-56页
        5.2.2 未来研究工作的展望第56-58页
参考文献第58-62页
致谢第62-64页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第64

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