紫外纳秒激光直写铜膜微结构的研究

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紫外纳秒激光直写铜膜微结构的研究

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紫外纳秒激光直写铜膜微结构的研究

论文目录
中文摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-8页
第一章绪论	第8-17页
1.1 激光直写技术	第8-9页
1.2 激光直写加工金属薄膜研究进展	第9-15页
1.3 课题研究的意义和主要内容	第15-17页
第二章紫外纳秒脉冲激光加工机理	第17-26页
2.1 激光与材料相互作用机理	第17-21页
2.1.1 金属对激光的反射与吸收	第17-19页
2.1.2 温度模型的建立	第19-21页
2.2 激光脉冲的能量与烧蚀点直径关系	第21-23页
2.3 累积效应对阈值的影响	第23-26页
第三章实验系统搭建	第26-42页
3.1 紫外纳秒脉冲激光器	第26-28页
3.2 光路系统	第28-30页
3.3 运动控制系统	第30-33页
3.3.1 PMAC的基本特点和功能	第31-32页
3.3.2 以PMAC为核心的运动控制系统设计	第32-33页
3.3.3 PMAC软件工具	第33页
3.4 三维位移台	第33-36页
3.5 上位机软件编写	第36-40页
3.5.1 软件开发环境	第36页
3.5.2 软件模块设置	第36-37页
3.5.3 软件人机交互界面设计	第37-40页
3.6 辅助设备	第40-42页
第四章紫外纳秒激光加工铜薄膜实验研究	第42-58页
4.1 单脉冲激光烧蚀铜膜	第42-50页
4.1.1 铜膜放置在焦平面时的单脉冲烧蚀实验	第42-44页
4.1.2 铜膜放置在焦平面外的单脉冲烧蚀实验	第44-50页
4.2 直线结构加工	第50-56页
4.2.1 铜膜放置在焦平面时的直线结构加工试验	第50-51页
4.2.2 铜膜放置在焦平面外的直线结构加工试验	第51-53页
4.2.3 系统参数对微结构边缘锯齿大小的影响	第53-55页
4.2.4 薄膜光栅制作	第55-56页
4.3 实验结果总结	第56-58页
第五章总结与展望	第58-60页
参考文献	第60-63页
发表论文和参加科研情况说明	第63-64页
致谢	第64-65页

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