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半导体制造中嵌套性工艺参数的统计过程控制研究
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半导体制造中嵌套性工艺参数的统计过程控制研究
论文目录
 
摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
符号对照表第10-11页
缩略语对照表第11-15页
第一章 绪论第15-19页
　　1.1 统计过程控制技术的发展第15-16页
　　1.2 研究背景与意义第16-17页
　　1.3 国内外研究现状第17页
　　1.4 本文主要的研究内容第17-19页
第二章 SPC的理论基础与嵌套性检验第19-33页
　　2.1 SPC的理论基础第19-22页
　　　　2.1.1 基本概念第19-21页
　　　　2.1.2 SPC的理论基础第21-22页
　　2.2 嵌套性检验第22-32页
　　　　2.2.1 单因素方差分析(one-way ANOVA)的模型与条件第23页
　　　　2.2.2 单因素方差分析的方法第23-25页
　　　　2.2.3 嵌套性检验的方法与步骤第25-27页
　　　　2.2.4 实例说明第27-32页
　　2.3 本章小结第32-33页
第三章 一阶嵌套控制图第33-45页
　　3.1 一阶嵌套模型第33-36页
　　　　3.1.1 一阶嵌套模型及常见错误第33-34页
　　　　3.1.2 实例说明第34-36页
　　3.2 一阶嵌套“均值-标准偏差“控制图第36-42页
　　　　3.2.1 一阶嵌套均值控制图第36-40页
　　　　3.2.2 一阶嵌套标准偏差控制图第40-41页
　　　　3.2.3 一阶嵌套“均值-标准偏差”控制图的绘制步骤第41页
　　　　3.2.4 实例说明第41-42页
　　3.3 一阶嵌套“均值-极差”控制图第42-44页
　　　　3.3.1 均值控制图第42页
　　　　3.3.2 极差控制图第42-43页
　　　　3.3.3 一阶嵌套“均值-极差”控制图的绘制步骤第43页
　　　　3.3.4 实例说明第43-44页
　　3.4 本章小结第44-45页
第四章 二阶嵌套控制图第45-71页
　　4.1 二阶嵌套模型第45-47页
　　4.2 二阶嵌套控制图的组成第47-48页
　　4.3 子批均值统计过程控制第48-55页
　　　　4.3.1 M_(xbar)-S_(xbar)控制图第48-52页
　　　　4.3.2 M_(xbar)-R_(xbar)控制图第52-54页
　　　　4.3.3 两种控制图的对比第54-55页
　　4.4 子批标准偏差的统计过程控制第55-67页
　　　　4.4.1 M_s-S_s控制图第55-63页
　　　　4.4.2 M_s-R_s控制图第63-67页
　　　　4.4.3 两种控制图的对比第67页
　　4.5 二阶嵌套控制图诊断功能说明第67-69页
　　　　4.5.1 诊断功能说明第68页
　　　　4.5.2 实例说明第68-69页
　　4.6 本章小结第69-71页
第五章 软件工具说明第71-77页
　　5.1 软件工具界面介绍第71-72页
　　5.2 软件工具的操作第72-75页
　　　　5.2.1 打开数据文件第72-73页
　　　　5.2.2 数据读取第73页
　　　　5.2.3 绘制相应的控制图第73-74页
　　　　5.2.4 生成SPC报告第74-75页
　　5.3 本章小结第75-77页
第六章 全文总结第77-79页
　　6.1 本文的主要贡献第77页
　　6.2 后续工作展望第77-79页
参考文献第79-81页
附表 一第81-83页
致谢第83-85页
作者简介第85-86页

本篇论文共86页，点击这进入下载页面。
 
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