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基于场板和LDD技术的AlGaN/GaN HEMT器件特性研究
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基于场板和LDD技术的AlGaN/GaN HEMT器件特性研究
论文目录
摘要
第1-6页
ABSTRACT
第6-10页
符号对照表
第10-11页
缩略语对照表
第11-14页
第一章 引言
第14-20页
1.1 研究背景与意义
第14-16页
1.2 国内外研究状况
第16-19页
1.3 本文的主要工作及结构安排
第19-20页
第二章 AlGaN/GaN HEMT器件基本原理
第20-30页
2.1 AlGaN/GaN HEMT基本结构
第20-21页
2.2 极化效应
第21-23页
2.3 二维电子气
第23-25页
2.4 AlGaN/GaN HEMT工作机理
第25-28页
2.5 本章小结
第28-30页
第三章 AlGaN/GaN HEMT耐压技术与仿真技术
第30-42页
3.1 AlGaN/GaN HEMT击穿机理
第30-31页
3.2 AlGaN/GaN HEMT耐压技术
第31-36页
3.2.1 平坦沟道电场技术
第31-33页
3.2.2 减小缓冲层泄漏电流技术
第33-35页
3.2.3 其他技术
第35-36页
3.3 仿真软件概述
第36-37页
3.4 AlGaN/GaN HEMT仿真模型
第37-41页
3.4.1 基本方程
第37-38页
3.4.2 迁移率模型
第38-39页
3.4.3 载流子产生-复合模型
第39-40页
3.4.4 极化模型
第40-41页
3.5 本章小结
第41-42页
第四章 带有场板结构的AlGaN/GaN HEMT
第42-54页
4.1 场板提高击穿电压的机理分析
第42-44页
4.2 阶梯场板对电场分布的影响
第44-47页
4.3 阶梯场板几何参数的优化
第47-50页
4.3.1 场板长度的优化
第47-48页
4.3.2 阶梯高度的优化
第48-49页
4.3.3 阶梯场板优化结果与总结
第49-50页
4.4 复合浮空场板对器件击穿电压的影响
第50-53页
4.5 本章小结
第53-54页
第五章 带有LDD结构的AlGaN/GaN HEMT
第54-66页
5.1 器件结构
第54-55页
5.2 LDD结构对阈值电压的影响
第55-56页
5.3 LDD结构对击穿电压的影响
第56-62页
5.3.1 LDD结构对沟道层中电场分布的影响
第56-58页
5.3.2 氟离子区浓度的优化
第58-60页
5.3.3 氟离子区长度的优化
第60-62页
5.4 漏端引入氢离子掺杂的LDD-HEMT
第62-64页
5.5 本章小结
第64-66页
第六章 总结与展望
第66-68页
参考文献
第68-74页
致谢
第74-76页
作者简介
第76-77页
本篇论文共
77
页,
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。
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