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基于场板和LDD技术的AlGaN/GaN HEMT器件特性研究

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基于场板和LDD技术的AlGaN/GaN HEMT器件特性研究
论文目录
 
摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
符号对照表第10-11页
缩略语对照表第11-14页
第一章 引言第14-20页
  1.1 研究背景与意义第14-16页
  1.2 国内外研究状况第16-19页
  1.3 本文的主要工作及结构安排第19-20页
第二章 AlGaN/GaN HEMT器件基本原理第20-30页
  2.1 AlGaN/GaN HEMT基本结构第20-21页
  2.2 极化效应第21-23页
  2.3 二维电子气第23-25页
  2.4 AlGaN/GaN HEMT工作机理第25-28页
  2.5 本章小结第28-30页
第三章 AlGaN/GaN HEMT耐压技术与仿真技术第30-42页
  3.1 AlGaN/GaN HEMT击穿机理第30-31页
  3.2 AlGaN/GaN HEMT耐压技术第31-36页
    3.2.1 平坦沟道电场技术第31-33页
    3.2.2 减小缓冲层泄漏电流技术第33-35页
    3.2.3 其他技术第35-36页
  3.3 仿真软件概述第36-37页
  3.4 AlGaN/GaN HEMT仿真模型第37-41页
    3.4.1 基本方程第37-38页
    3.4.2 迁移率模型第38-39页
    3.4.3 载流子产生-复合模型第39-40页
    3.4.4 极化模型第40-41页
  3.5 本章小结第41-42页
第四章 带有场板结构的AlGaN/GaN HEMT第42-54页
  4.1 场板提高击穿电压的机理分析第42-44页
  4.2 阶梯场板对电场分布的影响第44-47页
  4.3 阶梯场板几何参数的优化第47-50页
    4.3.1 场板长度的优化第47-48页
    4.3.2 阶梯高度的优化第48-49页
    4.3.3 阶梯场板优化结果与总结第49-50页
  4.4 复合浮空场板对器件击穿电压的影响第50-53页
  4.5 本章小结第53-54页
第五章 带有LDD结构的AlGaN/GaN HEMT第54-66页
  5.1 器件结构第54-55页
  5.2 LDD结构对阈值电压的影响第55-56页
  5.3 LDD结构对击穿电压的影响第56-62页
    5.3.1 LDD结构对沟道层中电场分布的影响第56-58页
    5.3.2 氟离子区浓度的优化第58-60页
    5.3.3 氟离子区长度的优化第60-62页
  5.4 漏端引入氢离子掺杂的LDD-HEMT第62-64页
  5.5 本章小结第64-66页
第六章 总结与展望第66-68页
参考文献第68-74页
致谢第74-76页
作者简介第76-77页

本篇论文共77页,点击这进入下载页面
 
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