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增强型双异质结器件特性研究

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增强型双异质结器件特性研究
论文目录
 
摘要第1-7页
ABSTRACT第7-12页
符号对照表第12-13页
缩略语对照表第13-16页
第一章 绪论第16-22页
  1.1 氮化物及氮化镓介绍第16-18页
    1.1.1 氮化物优势第16-17页
    1.1.2 氮化镓的优势第17-18页
  1.2 GaN器件的研究进展第18-21页
    1.2.1 常规GaN器件和双异质结GaN研究进展第18-19页
    1.2.2 增强型GaN器件的研究进展第19-21页
  1.3 本论文的结构第21-22页
第二章 GaN HEMT原理与工艺及仿真软件介绍第22-32页
  2.1 AlGaN/ GaN HEMT工作原理及增强型实现方法第22-26页
  2.2 AlGaN/GaN HEMT器件的制备工艺第26-29页
  2.3 Silvaco软件介绍第29-30页
  2.4 本章小结第30-32页
第三章 不同氟等离子功率处理GaN双异质结器件仿真分析第32-52页
  3.1 双异质结器件与单异质结器件特性仿真对比第32-35页
  3.2 不同GaN沟道层厚度对器件特性的影响第35-38页
  3.3 常规氟功率处理器件特性对比第38-44页
  3.4 较低氟功率体处理器件特性对比第44-50页
  3.5 本章小结第50-52页
第四章 135W氟等离子功率处理GaN双异质结器件实验分析第52-78页
  4.1 135W氟功率处理GaN双异质结器件退火前特性分析第52-58页
    4.1.1 135W氟功率处理GaN双异质结器件退火前直流特性第53-56页
    4.1.2 135W氟功率处理GaN双异质结器件退火前肖特基特性第56-57页
    4.1.3 135W氟功率处理GaN双异质结退火前CV特性第57-58页
  4.2 135W氟功率处理GaN双异质结器件退火后特性第58-64页
    4.2.1 135W氟功率处理GaN双异质结器件退火后直流特性第58-61页
    4.2.2 135W氟功率处理GaN双异质结器件退火后肖特基特性第61-63页
    4.2.3 135W氟功率处理GaN双异质结器件退火后CV特性第63-64页
  4.3 GaN双异质结变温特性分析第64-76页
    4.3.1 GaN双异质结器件变温直流特性第64-69页
    4.3.2 GaN双异质结器件变温肖特基特性第69-75页
    4.3.3 GaN双异质结器件变温DIBL效应第75-76页
  4.4 本章小结第76-78页
第五章 总结第78-80页
参考文献第80-84页
致谢第84-86页
作者简介第86-87页

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