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微纳器件介电薄膜的制造工艺与特性研究

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微纳器件介电薄膜的制造工艺与特性研究
论文目录
 
致谢第1-6页
摘要第6-7页
缩略词表第7-8页
Abstract第8-12页
1 绪论第12-22页
  1.1 引言第12-14页
  1.2 介电薄膜的应用背景第14-16页
  1.3 高K栅介质的选择第16-19页
    1.3.1 Si_3N_4和SiO_xN_y第17页
    1.3.2 ⅣB元素(Ti、Zr、Hf)氧化物第17-18页
    1.3.3 ⅢA元素(Al)氧化物第18页
    1.3.4 ⅢB族金属(Y、La)氧化物第18-19页
    1.3.5 ⅤB族金属(Ta)氧化物第19页
  1.4 论文的研究目的和内容第19-22页
2 介质薄膜的漏电机理分析第22-36页
  2.1 介质薄膜的导电机理第22-23页
  2.2 电极限制型导电机理第23-28页
    2.2.1 肖特基(或热离子)发射第23-25页
    2.2.2 F-N隧穿第25-26页
    2.2.3 直接隧穿第26-27页
    2.2.4 热离子场发射第27-28页
  2.3 体限制型导电机理第28-36页
    2.3.1 普尔-法兰克发射第28-29页
    2.3.2 跃迁传导第29-30页
    2.3.3 欧姆电导第30-31页
    2.3.4 空间电荷限制电导第31-33页
    2.3.5 离子电导第33-36页
3 Ta_2O_5薄膜特性研究第36-60页
  3.1 薄膜制备方法第36-41页
    3.1.1 直流磁控溅射第36-38页
    3.1.2 化学气相沉积第38-39页
    3.1.3 原子层淀积第39-41页
  3.2 薄膜生长及其表征方法第41-45页
  3.3 实验中样品的制备第45-49页
    3.3.1 DC Sputtering制备W电极第46-47页
    3.3.2 ALD制备Al_2O_3/ZnO薄膜第47-49页
    3.3.3 CVD制备Ta_2O_5薄膜第49页
  3.4 Ta_2O_5薄膜特性分析第49-60页
    3.4.1 表面光滑作用第49-53页
    3.4.2 电学特性分析第53-60页
4 CeO_2与La_2O_3薄膜特性研究第60-71页
  4.1 La_2O_3/Si的热稳定性研究第60-64页
  4.2 CeO_2/La_2O_3/Si的XPS研究第64-71页
5 总结与展望第71-74页
  5.1 总结第71-73页
  5.2 展望第73-74页
参考文献第74-82页
作者简历及在学校期间所取得的科研成果第82-83页
作者简历第82页
发表和录用文章第82-83页

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